基于加法工艺二元光学组件制作模型的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·二元光学概述 | 第9-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-13页 |
| ·微光学应用状况及前景 | 第10-11页 |
| ·微光学元件制作方法及其发展状况 | 第11-13页 |
| ·本文的主要工作及内容安排 | 第13-15页 |
| ·论文主要工作 | 第13-14页 |
| ·论文结构安排 | 第14-15页 |
| 第2章 二元光学元件理论基础 | 第15-20页 |
| ·理论基础 | 第15-16页 |
| ·标量衍射理论 | 第15页 |
| ·矢量衍射理论 | 第15-16页 |
| ·衍射效率 | 第16-18页 |
| ·二元光学元件设计评价函数 | 第18-20页 |
| 第3章 二元光学组件制作及加法工艺 | 第20-23页 |
| ·二元光学组件 | 第20页 |
| ·横向加法工艺 | 第20-23页 |
| ·横向加法工艺思路 | 第20-21页 |
| ·横向加法工艺流程 | 第21-22页 |
| ·加法工艺器件模型要求 | 第22-23页 |
| 第4章 一维减法器组件制作模型及仿真 | 第23-34页 |
| ·一维减法器组件工作原理 | 第23-25页 |
| ·一维减法器器件模型建立 | 第25-30页 |
| ·一维减法器透镜制作模型建立及分析 | 第25-27页 |
| ·一维减法器正弦光栅模型 | 第27-30页 |
| ·一维减法器软件仿真及结果 | 第30-34页 |
| 第5章 实验系统及工艺参数研究 | 第34-45页 |
| ·成型材料及实验系统、器材简介 | 第34-38页 |
| ·成型材料 | 第34-35页 |
| ·实验装置及器材简介 | 第35-38页 |
| ·重要工艺介绍 | 第38-40页 |
| ·涂层工艺 | 第38-39页 |
| ·光窗制作及其与固化树脂的脱剥工艺 | 第39-40页 |
| ·工艺参数研究 | 第40-45页 |
| ·光敏树脂特性参数测定 | 第41-42页 |
| ·最佳显影时间测定 | 第42-44页 |
| ·最佳曝光时间测定 | 第44-45页 |
| 第6章 组件制作及结果分析 | 第45-49页 |
| ·掩模绘制 | 第45-46页 |
| ·一维减法器制作实验与结果总结 | 第46-49页 |
| 第7章 全文总结与展望 | 第49-51页 |
| ·本文主要研究内容 | 第49页 |
| ·本文创新点 | 第49-50页 |
| ·工作的进一步展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
