| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·超导技术 | 第10-15页 |
| ·超导材料的发展 | 第10-13页 |
| ·铜氧化物超导体的晶体结构 | 第13-14页 |
| ·高温超导薄膜的制备方法 | 第14-15页 |
| ·超导材料的应用 | 第15页 |
| ·La_(2-x)Sr_xCuO_4简介 | 第15-17页 |
| ·超导异质结构的研究进展 | 第17-18页 |
| ·电场调控材料超导性能的研究进展 | 第18-20页 |
| ·本论文研究的目的与意义 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-25页 |
| 第二章 实验方法及原理 | 第25-39页 |
| ·薄膜的沉积技术 | 第25-29页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第25页 |
| ·脉冲激光沉积的基本原理 | 第25-27页 |
| ·脉冲激光沉积法的优势 | 第27页 |
| ·脉冲激光沉积的应用 | 第27-28页 |
| ·本文所采用脉冲激光沉积装置 | 第28-29页 |
| ·薄膜的沉积原理 | 第29-31页 |
| ·薄膜形核过程介绍 | 第29-30页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第30-31页 |
| ·薄膜样品的分析方法与器件制备技术 | 第31-36页 |
| ·X 射线衍射(XRD)分析技术 | 第31-32页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)技术 | 第32-33页 |
| ·紫外光刻技术 | 第33-36页 |
| ·薄膜样品的性能测试 | 第36-38页 |
| ·低温技术 | 第36页 |
| ·电学性能测量 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-39页 |
| 第三章 La_(2-x)Sr_xCuO_4超导薄膜的制备工艺研究 | 第39-47页 |
| ·概述 | 第39页 |
| ·PLD 镀膜实验步骤 | 第39-40页 |
| ·LSCO 薄膜的制备工艺研究 | 第40-44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第四章 La_(2-x)Sr_xCuO_4/Nb:SrTiO3异质结构电学性能研究 | 第47-56页 |
| ·概述 | 第47-48页 |
| ·LSCO/NSTO 异质结构的制备及表征方法 | 第48-49页 |
| ·实验结果分析 | 第49-53页 |
| ·过掺杂和欠掺杂 LSCO/NSTO 异质结的比较分析 | 第49-52页 |
| ·NSTO 衬底的掺杂浓度对超导转变温度的影响规律 | 第52-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第五章 La_(2-x)Sr_xCuO_4双层薄膜电学性能的研究 | 第56-62页 |
| ·概述 | 第56页 |
| ·双层薄膜的制备及表征方法 | 第56-58页 |
| ·实验结果及分析 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
| 第六章 结论与展望 | 第62-64页 |
| ·结论 | 第62-63页 |
| ·展望 | 第63-64页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
