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Ge掺杂的微孔SiO2薄膜的制备及氢气渗透与分离性能的研究

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
第1章 绪论第8-20页
   ·引言第8-9页
   ·研究现状第9-17页
     ·氢气分离的现状第9-12页
     ·微孔 SiO2膜分离技术的研究现状第12-17页
   ·本论文的研究目的第17页
   ·本论文的研究内容第17-20页
第2章 Ge 掺杂微孔 SiO2膜的制备及表征第20-40页
   ·引言第20页
   ·实验第20-23页
     ·原料第20页
     ·支撑体的制备第20-22页
     ·Ge 掺杂的 SiO2溶胶及膜材料的制备第22页
     ·表征方法第22-23页
   ·结果与讨论第23-37页
     ·溶胶结构表征第23-30页
     ·孔结构分析第30-32页
     ·Ge 掺杂 SiO2膜的形貌第32-33页
     ·Ge 在薄膜材料中的存在状态第33-35页
     ·水热稳定性能的研究第35-37页
   ·本章小结第37-40页
第3章 Ge 掺杂的微孔 SiO2薄膜的氢气渗透和分离研究第40-54页
   ·引言第40页
   ·气体在膜材料中的输运机理第40-43页
     ·Knudsen 扩散第41页
     ·表面扩散第41-42页
     ·多层扩散与毛细管凝聚第42-43页
     ·分子筛分效应第43页
   ·气体分离原理第43-44页
   ·气体渗透性测试方法第44-47页
     ·恒体积变压力法第44-46页
     ·恒压力变体积法第46-47页
   ·实验第47-48页
     ·样品制备第47页
     ·气体渗透实验第47-48页
   ·结果与讨论第48-52页
   ·本章小结第52-54页
结论第54-56页
参考文献第56-62页
攻读硕士期间所发表的学术论文第62-64页
致谢第64页

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