| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 致谢 | 第8-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-22页 |
| ·引言 | 第15-16页 |
| ·VO_2的晶体结构及特性 | 第16-18页 |
| ·VO_2的晶体结构 | 第16-17页 |
| ·VO_2的特性 | 第17-18页 |
| ·VO_2薄膜的应用 | 第18-20页 |
| ·智能窗材料 | 第18-19页 |
| ·红外辐射测热计、热敏电阻 | 第19页 |
| ·光电开关 | 第19页 |
| ·光存储、光调制器件 | 第19页 |
| ·激光防护 | 第19-20页 |
| ·其他方面的应用 | 第20页 |
| ·本课题的研究目的、意义、内容及创新点 | 第20-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第二章 薄膜的制备与检测 | 第22-35页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第22-25页 |
| ·真空蒸发镀 | 第22页 |
| ·离子束沉积 | 第22-23页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第23页 |
| ·化学气相沉积法 | 第23-24页 |
| ·溅射法 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射镀膜机理 | 第25-26页 |
| ·薄膜的成膜机理 | 第26-27页 |
| ·薄膜的形成模式 | 第26-27页 |
| ·薄膜的形核与生长物理过程 | 第27页 |
| ·实验简介 | 第27-30页 |
| ·实验耗材与实验仪器 | 第27-28页 |
| ·基片制备与清洗 | 第28-29页 |
| ·薄膜的制备实验过程 | 第29-30页 |
| ·薄膜的检测 | 第30-34页 |
| ·电阻测试 | 第30-31页 |
| ·光学测试 | 第31-32页 |
| ·物相分析 | 第32页 |
| ·微观形貌研究 | 第32-34页 |
| ·膜厚的测量 | 第34页 |
| ·膜基结合力的测试 | 第34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 VO_2薄膜的制备及性能研究 | 第35-47页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·氧分压的影响 | 第35-38页 |
| ·不同氧分压制备薄膜的电学性能研究 | 第35-37页 |
| ·不同氧分压制备薄膜的 XRD 测试 | 第37-38页 |
| ·溅射时间的影响 | 第38-42页 |
| ·不同溅射时间制备薄膜的电阻-温度曲线 | 第38-39页 |
| ·不同溅射时间制备薄膜的 AFM 图片 | 第39-40页 |
| ·不同溅射时间制备薄膜的可见光透过率 | 第40-42页 |
| ·基底的影响 | 第42-44页 |
| ·不同基底上制备薄膜的电阻-温度曲线 | 第42-43页 |
| ·不同基底上 VO_2薄膜的 XRD 图 | 第43页 |
| ·不同基底上制备 VO_2薄膜的 SEM 图片 | 第43-44页 |
| ·VO_2薄膜其他性能的测试 | 第44-45页 |
| ·VO_2薄膜红外光透过率测试 | 第44-45页 |
| ·薄膜膜厚测试 | 第45页 |
| ·小结 | 第45-47页 |
| 第四章 掺杂 VO_X薄膜的制备及性能研究 | 第47-59页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·掺杂机理 | 第47-48页 |
| ·W 掺杂 VO_X薄膜的制备及性能的研究 | 第48-54页 |
| ·掺钨 VO_2薄膜的电学性能测试 | 第49-50页 |
| ·掺钨 VO_2薄膜的光学性能测试 | 第50-51页 |
| ·掺钨薄膜的微观形貌测试 | 第51-52页 |
| ·掺钨薄膜的 XRD 测试 | 第52-53页 |
| ·XPS 测试分析 | 第53-54页 |
| ·Ti 掺杂 VO_2薄膜的制备及性能的研究 | 第54-57页 |
| ·掺钛 VO_2薄膜的电学性能测试 | 第54-55页 |
| ·掺钛 VO_2薄膜的红外透过率测试 | 第55页 |
| ·掺钛 VO_2薄膜的 XRD 测试 | 第55-56页 |
| ·掺钛 VO_2薄膜的 AFM 测试 | 第56-57页 |
| ·N 掺杂 VO_2薄膜的制备及其性能研究 | 第57-58页 |
| ·掺氮 VO_2薄膜的电学性能测试 | 第57页 |
| ·掺氮 VO_2薄膜的 XRD 测试 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 VO_2双层薄膜与智能玻璃的制备和性能研究 | 第59-70页 |
| ·引言 | 第59页 |
| ·TiO_2/VO_2双层薄膜的制备及性能研究 | 第59-63页 |
| ·双层膜的电学性能测试 | 第59-60页 |
| ·双层膜的 AFM 测试 | 第60-61页 |
| ·双层膜的 XRD 测试 | 第61-62页 |
| ·双层膜的膜基结合力测试 | 第62页 |
| ·双层膜的可见光透过率测试 | 第62-63页 |
| ·TiO_2缓冲层对掺钨氧化钒热敏智能玻璃的制备及性能影响 | 第63-68页 |
| ·AFM 分析 | 第64-65页 |
| ·智能玻璃样品的可见光透过率测试 | 第65-66页 |
| ·样品 5.3-1 与样品 5.3-5 的 XRD 测试 | 第66页 |
| ·样品 5.3-1 与样品 5.3-5 的电阻-温度曲线 | 第66-67页 |
| ·样品 5.3-1 与样品 5.3-5 的 FTIR 图谱 | 第67-68页 |
| ·样品 5.3-1 与样品 5.3-5 的 SEM 测试 | 第68页 |
| ·小结 | 第68-70页 |
| 第六章 总结 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第78-79页 |
