利用脉冲工艺改进TiN薄膜组织性能的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·气相沉积技术简介 | 第10-12页 |
| ·CVD 法 | 第10-11页 |
| ·PVD 法 | 第11-12页 |
| ·当前PVD 刀具涂层代表技术及实现工艺 | 第12-13页 |
| ·离子镀沉积技术 | 第12-13页 |
| ·电弧离子镀技术 | 第12页 |
| ·热阴极离子镀技术 | 第12-13页 |
| ·磁控溅射技术 | 第13页 |
| ·TiN 基涂层应用及研究进展 | 第13-15页 |
| ·TiN 涂层的应用 | 第13-14页 |
| ·TiN 基涂层的研究进展 | 第14-15页 |
| ·国内刀具用PVD 涂层的市场现状 | 第15-16页 |
| ·本论文的起因、设想及目的 | 第16-20页 |
| ·本次工艺改进试验的起因 | 第16-18页 |
| ·本论文的设想及目的 | 第18-20页 |
| 第二章 试验设备、原理和方法 | 第20-33页 |
| ·试验设备 | 第20-26页 |
| ·CTI-830 型镀膜机 | 第20-23页 |
| ·真空沉积室 | 第20-21页 |
| ·真空机组 | 第21-22页 |
| ·电器控制系统 | 第22-23页 |
| ·冷却循环系统 | 第23页 |
| ·设备工作原理 | 第23-26页 |
| ·工作原理 | 第23-24页 |
| ·CTI-830 型镀膜机的特点 | 第24-26页 |
| ·TiN 涂层的工艺过程 | 第26-27页 |
| ·基体材料及其表面预处理 | 第26页 |
| ·涂层加工的工艺过程 | 第26-27页 |
| ·工件加热 | 第26页 |
| ·工件刻蚀 | 第26-27页 |
| ·镀膜阶段 | 第27页 |
| ·热阴极离子镀膜层形成条件 | 第27页 |
| ·TiN 薄膜质量的表征 | 第27-33页 |
| ·TiN 薄膜结构的表征方法 | 第27-28页 |
| ·TiN 薄膜附着性的表征方法 | 第28-30页 |
| ·TiN 薄膜的机械性能表征方法 | 第30-33页 |
| ·TiN 薄膜厚度的测量 | 第30-31页 |
| ·涂层刀具的切削性能 | 第31-33页 |
| 第三章 脉冲工艺改进试验内容 | 第33-53页 |
| ·直流基体偏压下TiN 薄膜的性能 | 第33-34页 |
| ·直流脉冲偏压改进后TiN 薄膜的性能 | 第34-53页 |
| ·第一阶段试验 | 第34-39页 |
| ·工件基体镀膜温度的测量 | 第35-36页 |
| ·一阶段试验情况说明 | 第36-39页 |
| ·第二阶段试验 | 第39-44页 |
| ·第三阶段试验 | 第44-53页 |
| 第四章 结论和展望 | 第53-57页 |
| ·论文的工作总结 | 第53-54页 |
| ·本实验的创新点 | 第54页 |
| ·研究展望 | 第54-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
