| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-18页 |
| ·引言 | 第12-14页 |
| ·全球光伏发电的发展 | 第14-15页 |
| ·本文主要研究背景及研究工作 | 第15-18页 |
| ·研究背景 | 第15-16页 |
| ·本文的研究意义和创新内容 | 第16-18页 |
| 第二章 高效太阳电池技术工艺研究 | 第18-38页 |
| ·太阳电池的工作原理[6] | 第18-21页 |
| ·常规太阳电池制备工艺 | 第21-25页 |
| ·硅片的化学清洗 | 第22页 |
| ·清除表面损伤层 | 第22页 |
| ·绒面硅表面的制作 | 第22-23页 |
| ·p-n结制作 | 第23-24页 |
| ·等离子体刻蚀 | 第24页 |
| ·制备光学减反射膜及表面钝化[11-13] | 第24页 |
| ·电极制作——丝网印刷及烧结 | 第24-25页 |
| ·电池性能测试和分档 | 第25页 |
| ·选择性发射极太阳电池的结构特征和优点 | 第25-29页 |
| ·选择性发射极太阳电池的发射极结构 | 第25-26页 |
| ·选择性发射极太阳电池优异特性分析 | 第26-29页 |
| ·选择性发射极太阳电池的实现方法及相关设备 | 第29-35页 |
| ·激光开槽技术（Laser grooved buried contacted solar cells，LGBC） | 第29-30页 |
| ·激光掺杂技术（Laser doping selective emitter，LDSE） | 第30-32页 |
| ·Etching back技术 | 第32-33页 |
| ·硅墨水技术（Silicon Ink） | 第33-34页 |
| ·“一次扩散”的工艺 | 第34-35页 |
| ·双面钝化太阳电池的研究 | 第35-37页 |
| ·晶体硅电池的薄片化 | 第36页 |
| ·太阳电池的背表面钝化研究 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 选择性发射极太阳电池的制备 | 第38-57页 |
| ·理论模拟及优化 | 第38-44页 |
| ·太阳电池发射极薄层电阻的能量损耗功率 | 第39-40页 |
| ·太阳电池栅线体电阻的能量损耗功率 | 第40-42页 |
| ·太阳电池金属电极遮光的能量损耗功率 | 第42页 |
| ·太阳电池栅线电极接触电阻的能量损耗功率 | 第42页 |
| ·太阳电池栅线电极的优化 | 第42-44页 |
| ·实验设计 | 第44-46页 |
| ·喷墨打印设备和磷源的有效性分析 | 第46-47页 |
| ·选择性发射极太阳电池的测试及分析 | 第47-56页 |
| ·选择性扩散工艺的优化与分析 | 第47-49页 |
| ·选择性掺杂区域的表征 | 第49-50页 |
| ·SE太阳电池的输出特性 | 第50-53页 |
| ·SE太阳电池的量子效率和反射率 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章 双面钝化太阳电池的制备 | 第57-70页 |
| ·实验设计 | 第57-60页 |
| ·硅基薄膜的表征 | 第60-61页 |
| ·硅基薄膜的沉积速率 | 第60-61页 |
| ·硅基薄膜的拉曼（Raman）散射光谱 | 第61页 |
| ·薄膜的钝化效果 | 第61-65页 |
| ·混合相硅基薄膜钝化的机理分析 | 第65-66页 |
| ·双面钝化太阳电池的电学特性 | 第66-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第五章 全文总结 | 第70-73页 |
| ·主要结论 | 第70-71页 |
| ·研究展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第77页 |