首页--数理科学和化学论文--物理学论文--光学论文--光辐射、光度学、色度学论文--光辐射论文

基于MEMS的光学读出热成像技术的研究

摘要第1-7页
Abstract第7-13页
第一章 绪论第13-37页
   ·引言第13-14页
   ·红外探测技术概述第14-30页
     ·红外辐射(热辐射)第14-16页
     ·红外探测技术的发展第16-19页
     ·红外探测器的分类第19-21页
     ·目前红外探测器存在的问题第21-22页
     ·光学读出热成像技术的研究进展第22-30页
   ·本文的主要研究工作第30-31页
 参考文献第31-37页
第二章 光学读出系统第37-53页
   ·引言第37-39页
   ·谱平面刀口滤波的原理第39-46页
     ·谱平面刀口滤波技术的物理模型第39-43页
     ·谱平面刀口滤波的光学探测灵敏度第43-45页
     ·图像的放大倍数第45-46页
   ·光学读出系统的改进第46-49页
   ·本章小结第49-50页
 参考文献第50-53页
第三章 探测阵列设计的物理模型第53-80页
   ·引言第53-55页
   ·材料选择第55-58页
     ·红外的吸收第56页
     ·材料的选择第56-58页
   ·FPA设计的基本物理模型第58-64页
     ·微梁单元的热学设计模型第58-61页
     ·微梁单元的热机械设计模型第61-63页
     ·热像灰度和物体温升之间的关系第63页
     ·微梁单元的热响应时间第63-64页
   ·FPA结构设计第64-76页
     ·多回折梁变形放大的概念第66-69页
     ·回折梁的折数的优化第69-73页
     ·SiNx厚度对探测性能的影响第73-76页
   ·本章小结第76-77页
 参考文献第77-80页
第四章 FPA微制作工艺的实验研究第80-99页
   ·引言第80页
   ·FPA制作的微加工工艺简介第80-86页
     ·薄膜的制备第81-82页
     ·光刻(lithography)第82-83页
     ·刻蚀(etching)第83-85页
     ·剥离技术(lift-off)第85-86页
   ·FPA制作中关键工艺的实验研究第86-95页
     ·LPCVD SiNx薄膜的应力控制第86-88页
     ·腐蚀体硅的工艺研究第88-92页
     ·FPA结构释放中的盲元率的控制第92-95页
   ·FPA制作工艺流程第95-96页
   ·本章小结第96-97页
 参考文献第97-99页
第五章 热成像实验及性能分析第99-128页
   ·红外探测器的性能参数第99-104页
     ·基本概念第99-101页
     ·NETD和D之间的关系第101-102页
     ·系统的噪声第102-104页
   ·实验过程第104-107页
     ·实验系统装置第104-106页
     ·实验过程第106-107页
   ·不同FPA的实验结果和性能分析第107-125页
     ·FPA微梁单元尺寸为200μm×200μm时第107-115页
     ·FPA微梁单元尺寸为120μm×120μm时第115-120页
     ·FPA微梁单元尺寸为60μm×60μm时第120-125页
   ·本章小结第125-126页
 参考文献第126-128页
第六章 总结与展望第128-131页
   ·全文总结第128-129页
   ·未来研究展望第129-131页
附录:作者攻读博士学位期间发表或已完成的工作第131-133页
致谢第133-134页

论文共134页,点击 下载论文
上一篇:双曲守恒律方程的弱解研究
下一篇:基于电信信息服务市场结构问题的研究