| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-12页 |
| 本章参考文献 | 第11-12页 |
| 第一章 综述 | 第12-21页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第12-17页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第12-13页 |
| ·ZnO的缺陷和相应掺杂 | 第13-16页 |
| ·ZnO的光电特性 | 第16-17页 |
| ·ZnO的应用展望 | 第17-19页 |
| 本章参考文献 | 第19-21页 |
| 第二章 ZnO的制备及表征手段 | 第21-36页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第21-25页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第21-23页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第23页 |
| ·等离子体化学气相沉积(PECVD) | 第23-24页 |
| ·磁控溅射 | 第24-25页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第25页 |
| ·ZnO的表征方法 | 第25-34页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第25-27页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第27-28页 |
| ·光致发光系统 | 第28-29页 |
| ·震动样品磁强计(VSM) | 第29-30页 |
| ·霍尔效应测试 | 第30-32页 |
| ·分光光度计(UV-Vis spectroscopy) | 第32-34页 |
| 本章参考文献 | 第34-36页 |
| 第三章 Al掺杂ZAO薄膜的性能分析 | 第36-45页 |
| ·Al含量对ZAO结构特征的影响 | 第36-38页 |
| ·Al含量对ZAO光学性能的影响 | 第38-40页 |
| ·Al含量对ZAO电学性能的影响 | 第40-41页 |
| ·Al含量对ZAO性能指数的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 本章参考文献 | 第43-45页 |
| 第四章 Co/Cu掺杂ZAO薄膜的性能分析 | 第45-56页 |
| ·Co/Cu掺杂ZAO的结构分析 | 第45-47页 |
| ·Co/Cu掺杂ZAO的光学性质 | 第47-50页 |
| ·Co掺杂ZAO的透射性能 | 第47-48页 |
| ·Cu掺杂ZAO薄膜的透射性能 | 第48-49页 |
| ·Co/Cu掺杂ZAO光学性能比较 | 第49-50页 |
| ·Co/Cu含量对ZAO的电学性能的影响 | 第50页 |
| ·Co/Cu掺杂ZAO的性能指数 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 本章参考文献 | 第54-56页 |
| 第五章 Co和Cu共掺杂ZAO薄膜性能分析 | 第56-65页 |
| ·Co和Cu共掺杂对ZAO薄膜结构性能的影响 | 第56-58页 |
| ·Co和Cu共掺杂对ZAO薄膜光学性能的影响 | 第58-60页 |
| ·Co和Cu共掺杂对ZAO薄膜电学性能的影响 | 第60页 |
| ·Co和Cu共掺杂对ZAO薄膜磁学性能的影响 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 本章参考文献 | 第63-65页 |
| 第六章 结论 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读硕士期间科研成果 | 第68页 |