| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-16页 |
| 前言 | 第7-8页 |
| ·二氧化钛薄膜的结构、性质及研究进展 | 第8-12页 |
| ·氧化锌薄膜的结构、性质及研究进展 | 第12-13页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第13-15页 |
| ·本文研究的主要目的与内容 | 第15-16页 |
| 第二章 射频磁控溅射制备薄膜原理及工艺 | 第16-22页 |
| ·磁控溅射原理 | 第16-17页 |
| ·本实验所用设备以及简介 | 第17-20页 |
| ·制备工艺及实施方案 | 第20-22页 |
| 第三章 主要分析方法概述 | 第22-24页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第22页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第22页 |
| ·紫外-可见光谱(UV-Vis) | 第22-23页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第23页 |
| ·光致发光谱(PL) | 第23页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第23-24页 |
| 第四章 射频磁控溅射工艺参数对氧化物薄膜结构和性质的影响 | 第24-42页 |
| ·氧气流量对薄膜结构的影响 | 第24-31页 |
| ·二氧化钛薄膜 | 第24-28页 |
| ·氧化锌薄膜 | 第28-31页 |
| ·薄膜后期退火温度对薄膜结构的影响 | 第31-41页 |
| ·钛薄膜 | 第31-34页 |
| ·氧化钛薄膜 | 第34-38页 |
| ·锌薄膜 | 第38-41页 |
| ·结论 | 第41-42页 |
| 第五章 氧化钛、氧化锌薄膜光学性质 | 第42-49页 |
| ·二氧化钛薄膜光学性质 | 第42-43页 |
| ·氧化锌薄膜光学性质 | 第43-48页 |
| ·紫外可见吸收光谱 | 第43-45页 |
| ·光致发光谱 | 第45-48页 |
| ·结论 | 第48-49页 |
| 第六章 氧化钛亲水性、光催化性质 | 第49-52页 |
| ·薄膜亲水性 | 第49-50页 |
| ·薄膜光催化性质 | 第50-52页 |
| 全文结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |