外加磁场中溅射镀膜及机理研究

中文摘要	第1-4页
Abstract	第4-7页
第一章 引言	第7-10页
·研究背景	第7-8页
·本文研究思路和主要内容	第8-10页
第二章 样品的制备与表征	第10-14页
·样品的制备	第10-11页
·薄膜的表征	第11-14页
·膜厚的测量	第11-12页
·原子力显微镜	第12-13页
·X 射线衍射	第13-14页
第三章 溅射制膜的基本原理	第14-29页
·等离子体简介	第14-16页
·溅射原理	第16-22页
·溅射现象	第16-17页
·直流溅射与射频溅射	第17-20页
·磁控溅射	第20-22页
·带电粒子在恒定电场和磁场中的运动	第22-29页
·带电粒子在恒定电场和恒定磁场中的运动	第22-25页
·带电粒子在磁镜场中的运动	第25-29页
第四章 外加磁场溅射镀膜及薄膜的微观结构	第29-43页
·外加磁场镀膜及膜的微观结构	第29-40页
·沉积薄膜的宏观形貌	第30-32页
·放电辉光、自偏压与沉积速率	第32-34页
·薄膜的微观结构	第34-40页
·实验结果分析	第40-43页
第五章 总结与展望	第43-44页
参考文献	第44-47页
致谢	第47-48页
详细摘要	第48-52页