CrN薄膜的制备及腐蚀性能分析
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-21页 |
| ·选题意义 | 第7-8页 |
| ·电弧离子镀简介 | 第8-15页 |
| ·电弧离子镀的基本原理 | 第9-11页 |
| ·电弧离子镀的特点 | 第11-12页 |
| ·电弧离子镀的针孔及颗粒问题 | 第12-15页 |
| ·电弧离子镀的产品及应用 | 第15-16页 |
| ·电弧离子镀的发展 | 第16页 |
| ·腐蚀分类及研究方法 | 第16-19页 |
| ·腐蚀分类 | 第16-17页 |
| ·腐蚀研究的方法 | 第17-19页 |
| ·论文的选题意义和工作的内容 | 第19-21页 |
| 2 实验设备及分析方法 | 第21-30页 |
| ·电弧离子镀设备简介 | 第21-25页 |
| ·电弧离子镀的弧源系统 | 第23-24页 |
| ·基片台 | 第24页 |
| ·真空获得系统 | 第24-25页 |
| ·电源系统 | 第25页 |
| ·CrN薄膜性能的影响因素 | 第25-28页 |
| ·基体温度 | 第25-26页 |
| ·轰击偏压 | 第26-27页 |
| ·弧电流 | 第27-28页 |
| ·氮气含量 | 第28页 |
| ·其他影响参数 | 第28页 |
| ·薄膜结构与性能分析的方法 | 第28-30页 |
| 3 CrN薄膜的制备及其性能的测试 | 第30-44页 |
| ·基体材料的选择及预处理 | 第30-32页 |
| ·基体材料的选择 | 第30-31页 |
| ·基体材料的预处理 | 第31-32页 |
| ·镀膜工艺与参数选择 | 第32-34页 |
| ·电弧离子镀的一般工艺过程 | 第32-33页 |
| ·电弧离子镀CrN薄膜的制备工艺 | 第33-34页 |
| ·CrN薄膜的性能分析 | 第34-44页 |
| ·CrN_X薄膜的X射线衍射分析 | 第34-35页 |
| ·CrN_X薄膜的表面形貌分析 | 第35-37页 |
| ·CrN_X薄膜的显微硬度分析 | 第37-38页 |
| ·CrN_X薄膜的摩擦磨损性能分析 | 第38-41页 |
| ·CrN_X薄膜的腐蚀性能分析 | 第41-44页 |
| 4 Cr／CrN薄膜的制备及其性能的测试 | 第44-52页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·Cr／CrN薄膜的制备工艺 | 第45-46页 |
| ·Cr／CrN薄膜的性能分析 | 第46-51页 |
| ·Cr／CrN薄膜的相结构分析 | 第46-47页 |
| ·Cr／CrN薄膜的表面形貌分析 | 第47-48页 |
| ·Cr／CrN薄膜的腐蚀性能分析 | 第48-49页 |
| ·Cr／CrN薄膜的腐蚀机理分析 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
