| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| ·研究背景 | 第9-10页 |
| ·磁性薄膜制备方法 | 第10-15页 |
| ·真空蒸镀法 | 第10-11页 |
| ·溅射镀膜 | 第11-12页 |
| ·离子镀膜 | 第12-13页 |
| ·纳米薄膜和多层膜 | 第13页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第13-14页 |
| ·化学气相沉积法 | 第14页 |
| ·化学镀和电镀 | 第14-15页 |
| ·选题的目的及意义 | 第15-16页 |
| 第2章 实验方案的确定 | 第16-25页 |
| ·化学镀的优点 | 第16-17页 |
| ·实验原理 | 第17-21页 |
| ·化学镀镍的热力学原理 | 第17-18页 |
| ·化学镀镍的动力学原理 | 第18-19页 |
| ·镀液中各成分的作用 | 第19-21页 |
| ·化学镀镍工艺条件的影响 | 第21页 |
| ·典型镀液介绍 | 第21-22页 |
| ·化学镀镍一般实验步骤 | 第22-25页 |
| ·前处理 | 第22-24页 |
| ·化学镀 | 第24页 |
| ·后处理 | 第24-25页 |
| 第3章 Ni-Co-W-P磁性金属薄膜的制备 | 第25-33页 |
| ·化学镀制备薄膜的发展水平及研究现状 | 第25-26页 |
| ·实验内容 | 第26-31页 |
| ·基体材料 | 第26页 |
| ·试验试剂与仪器 | 第26-27页 |
| ·工艺流程 | 第27-31页 |
| ·结论 | 第31-33页 |
| 第4章 化学镀工艺配方优化研究 | 第33-47页 |
| ·实验原料与仪器设备 | 第33页 |
| ·施镀时间对镀膜的影响 | 第33-34页 |
| ·施镀温度对化学镀的影响 | 第34-38页 |
| ·施镀温度对镀速的影响 | 第34-37页 |
| ·施镀温度对磁性能的影响 | 第37-38页 |
| ·小结 | 第38页 |
| ·镀液中钨酸钠浓度对镀速以及镀层性能的影响 | 第38-46页 |
| ·实验方法 | 第38-39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| ·结论 | 第46-47页 |
| 第5章 热处理对Ni-Co-W-P镀膜结构与性能的影响 | 第47-58页 |
| ·影响化学镀层的主要因素 | 第47-49页 |
| ·基体材料、试样表面及镀前处理 | 第47-48页 |
| ·镀层应力 | 第48页 |
| ·施镀工艺 | 第48页 |
| ·超声波化学镀 | 第48-49页 |
| ·镀后热处理 | 第49页 |
| ·实验内容 | 第49-56页 |
| ·实验原料与仪器设备 | 第49-50页 |
| ·实验条件及方法 | 第50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-56页 |
| ·结论 | 第56-58页 |
| 第6章 结论与展望 | 第58-60页 |
| ·结论 | 第58-59页 |
| ·展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 附录 攻读硕士期间发表的论文 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |