高反膜的高精度镀制研究

第一章 绪论	第1-17页
·光学薄膜技术简介及目前在国内外的发展情况	第12-14页
·本课题的来源、目的及主要研究内容	第14页
·课题成果的应用前景	第14-17页
第二章 光学用薄膜蒸发镀膜的原理及镀膜设备的改造	第17-28页
·真空蒸法镀膜的原理	第17-20页
·原有设备的总体情况	第20-21页
·改造过程	第21-28页
·真空系统	第21页
·离子源辅助沉积装置	第21-24页
·监控系统	第24-28页
第三章 高反膜的膜系设计	第28-42页
·光学薄膜的基本原理及相关计算	第28-34页
·单层介质薄膜的反射率计算	第29-33页
·多层介质薄膜反射率的计算	第33-34页
·高反膜的设计	第34-42页
·高反膜膜系的反射率计算	第36页
·高反膜膜系的设计	第36-38页
·最优化方法在薄膜设计中的应用	第38-42页
第四章 薄膜样品的生产实践及性能测试	第42-48页
·样品的生产试验流程	第42-45页
·实验方法及过程	第42-43页
·膜厚控制	第43-45页
·样品的性能测试及结果	第45-48页
·光学性能测试	第45-46页
·表面质量检验	第46-47页
·膜层牢固度检验	第47页
·环境试验	第47-48页
第五章 高反膜膜系的优化设计	第48-54页
·影响薄膜损耗的几个重要因素	第48-49页
·高反膜膜系的优化设计	第49-54页
第六章 结论	第54-56页
参考文献	第56-59页
个人论文	第59-60页
附录	第60页
附录一 规整膜系反射率的计算程序	第60-61页
附录二 评价函数程序	第61-62页
附录三 单纯形法优化程序	第62-65页
附录四 优化电场强度的评价函数	第65页