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电子束蒸发制备TiO2薄膜及光学性能的研究

第一章 绪论第1-15页
 §1.1 光学薄膜的发展历史和研究现状第8-11页
 §1.2 TiO2薄膜的光学及光电子应用第11-13页
 §1.3 本研究课题的提出及研究目的第13-14页
 §1.4 论文工作构思及主要工作任务第14-15页
第二章 二氧化钛薄膜的生长及结构第15-19页
 §2.1 薄膜的形核与生长第15-16页
 §2.2 TiO_2薄膜的结构第16-19页
第三章 二氧化钛薄膜制备技术第19-25页
 §3.1 二氧化钛薄膜常用制备技术第19-23页
 §3.3 电子束反应蒸发设备与原理第23-25页
第四章 二氧化钛薄膜制备试验及光学性能研究第25-42页
 §4.1 正交试验法安排试验第25-26页
 §4.2 二氧化钛薄膜制备试验第26-28页
 §4.3 椭圆偏振仪测量光学常数第28-30页
 §4.4 工艺因素对薄膜光学常数的影响第30-34页
 §4.5 退火处理对薄膜结构的影响第34-37页
 §4.6 扫描电镜(SEM)分析第37-39页
 §4.7 透射率光谱分析第39-41页
 §4.8 小结第41-42页
第五章 膜系设计软件的开发与应用第42-66页
 §5.1 薄膜光学的基本理论第42-45页
 §5.2 膜系设计系统结构及设计原则第45-47页
 §5.3 膜系计算模块设计第47-49页
 §5.4 单层吸收膜光谱特性计算模块设计及应用第49-52页
 §5.5 光学常数分析模块设计及应用第52-56页
 §5.6 膜系寻优自动设计模块的开发第56-64页
 §5.7 增透膜设计与制备第64-66页
第六章 全文总结第66-67页
参考文献第67-71页
致谢第71-72页
攻读硕士期间完成的论文第72页

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