电子束蒸发制备TiO2薄膜及光学性能的研究
第一章 绪论 | 第1-15页 |
§1.1 光学薄膜的发展历史和研究现状 | 第8-11页 |
§1.2 TiO2薄膜的光学及光电子应用 | 第11-13页 |
§1.3 本研究课题的提出及研究目的 | 第13-14页 |
§1.4 论文工作构思及主要工作任务 | 第14-15页 |
第二章 二氧化钛薄膜的生长及结构 | 第15-19页 |
§2.1 薄膜的形核与生长 | 第15-16页 |
§2.2 TiO_2薄膜的结构 | 第16-19页 |
第三章 二氧化钛薄膜制备技术 | 第19-25页 |
§3.1 二氧化钛薄膜常用制备技术 | 第19-23页 |
§3.3 电子束反应蒸发设备与原理 | 第23-25页 |
第四章 二氧化钛薄膜制备试验及光学性能研究 | 第25-42页 |
§4.1 正交试验法安排试验 | 第25-26页 |
§4.2 二氧化钛薄膜制备试验 | 第26-28页 |
§4.3 椭圆偏振仪测量光学常数 | 第28-30页 |
§4.4 工艺因素对薄膜光学常数的影响 | 第30-34页 |
§4.5 退火处理对薄膜结构的影响 | 第34-37页 |
§4.6 扫描电镜(SEM)分析 | 第37-39页 |
§4.7 透射率光谱分析 | 第39-41页 |
§4.8 小结 | 第41-42页 |
第五章 膜系设计软件的开发与应用 | 第42-66页 |
§5.1 薄膜光学的基本理论 | 第42-45页 |
§5.2 膜系设计系统结构及设计原则 | 第45-47页 |
§5.3 膜系计算模块设计 | 第47-49页 |
§5.4 单层吸收膜光谱特性计算模块设计及应用 | 第49-52页 |
§5.5 光学常数分析模块设计及应用 | 第52-56页 |
§5.6 膜系寻优自动设计模块的开发 | 第56-64页 |
§5.7 增透膜设计与制备 | 第64-66页 |
第六章 全文总结 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
攻读硕士期间完成的论文 | 第72页 |