合成射流激励器及在主动流动控制中的应用
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-16页 |
第一章 绪论 | 第16-32页 |
·流动控制技术简介 | 第16-17页 |
·合成射流技术研究回顾 | 第17-21页 |
·合成射流技术提出 | 第17-18页 |
·合成射流的形成准则 | 第18-20页 |
·合成射流流场特点 | 第20-21页 |
·合成射流激励器 | 第21-23页 |
·合成射流激励器分类 | 第21-23页 |
·合成射流激励器的主要发展方向 | 第23页 |
·合成射流应用概述及国内外研究现状 | 第23-30页 |
·合成射流应用概述 | 第23-24页 |
·国外研究现状 | 第24-28页 |
·国内研究现状 | 第28-30页 |
·本文研究内容总述 | 第30-32页 |
第二章 模型、试验设备与试验技术 | 第32-41页 |
·实验模型 | 第32-33页 |
·瞬态流场测试技术-粒子图像测速仪PIV | 第33-38页 |
·PIV 技术简介 | 第33-34页 |
·PIV 图像的识别 | 第34-35页 |
·TSI 公司PIV 系统的组成 | 第35-37页 |
·合成射流PIV 流场测试 | 第37-38页 |
·热线风速仪测试技术 | 第38-41页 |
·热线风速仪的标定 | 第39-40页 |
·热线风速仪的优缺点 | 第40-41页 |
第三章 合成射流非定常流场特性试验研究 | 第41-58页 |
·引言 | 第41页 |
·流场测试装置和测试方法 | 第41-43页 |
·总压管实验测试装置 | 第41-42页 |
·PIV 实验测试装置 | 第42-43页 |
·合成射流流场特性实验研究 | 第43-48页 |
·合成射流非定常瞬态流场特性 | 第43-45页 |
·合成射流平均流场特性 | 第45-47页 |
·小结 | 第47-48页 |
·激励器参数对合成射流流场影响研究 | 第48-56页 |
·出口孔径对射流流场的影响 | 第48-50页 |
·出口长度对射流流场的影响 | 第50-53页 |
·出口形式变化对射流流场的影响 | 第53-55页 |
·振动膜幅值变化对射流流场的影响 | 第55-56页 |
·本章小结 | 第56-58页 |
第四章 阵列式合成射流组流场特性实验研究 | 第58-73页 |
·引言 | 第58-59页 |
·单缝合成射流流场特性 | 第59-63页 |
·合成射流实验模型 | 第59-60页 |
·单缝合成射流非定常流场特性 | 第60-63页 |
·合成射流组流场特性 | 第63-71页 |
·平直合成射流组流场特性 | 第63-67页 |
·倾斜合成射流组流场特性 | 第67-71页 |
·本章小节 | 第71-73页 |
第五章 合成射流射流矢量偏转控制实验研究 | 第73-88页 |
·引言 | 第73-75页 |
·模型、试验设备和实验测试装置 | 第75-77页 |
·合成射流激励器 | 第75-76页 |
·二维射流风洞 | 第76页 |
·射流矢量偏转控制实验测试装置 | 第76-77页 |
·合成射流能否实现对主射流的偏转控制? | 第77-78页 |
·合成射流矢量偏转控制研究 | 第78-86页 |
·激励器安装角的确定问题 | 第78-79页 |
·激励器共振频率测定 | 第79页 |
·激励频率变化对主射流偏转控制的影响 | 第79-81页 |
·激励电压变化对主射流偏转控制的影响 | 第81-82页 |
·高差变化对主射流偏转角的影响 | 第82-83页 |
·风速变化对主射流偏转角的影响 | 第83-84页 |
·频率和电压之间的控制耦合关系? | 第84-85页 |
·合成射流控制效率(合成射流与主射流动量比)探讨 | 第85-86页 |
·本章小结 | 第86-88页 |
第六章 结论和展望 | 第88-90页 |
·本文的主要工作和结论 | 第88-89页 |
·后续研究工作展望 | 第89-90页 |
参考文献 | 第90-93页 |
致谢 | 第93-94页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第94页 |