| 提要 | 第1-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·半金属的基本性质 | 第9-10页 |
| ·传导电子的完全极化 | 第9页 |
| ·整数磁矩 | 第9页 |
| ·低温或低场下对Stoner 激发的禁止 | 第9-10页 |
| ·二氧化铬的性质 | 第10-14页 |
| ·物理性质 | 第10-13页 |
| ·CrO_2的化学性质 | 第13页 |
| ·CrO_2薄膜的研究现状 | 第13-14页 |
| ·TiO_2的性质 | 第14-17页 |
| ·TiO_2的物理性质 | 第14-16页 |
| ·TiO_2的化学性质 | 第16-17页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第17-20页 |
| ·物理气相沉积 | 第17页 |
| ·化学气相沉积 | 第17-20页 |
| ·金属有机物化学气相沉积 | 第18页 |
| ·激光化学气相沉积 | 第18-19页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积 | 第19页 |
| ·常压化学气相沉积 | 第19-20页 |
| ·研究背景和主要内容 | 第20-22页 |
| 参考文献 | 第22-24页 |
| 第二章 TiO_2薄膜和CrO_2薄膜的制备方法及其表征 | 第24-33页 |
| ·TiO_2薄膜的制备方法 | 第24页 |
| ·CrO_2薄膜的制备方法 | 第24-25页 |
| ·实验结果表征 | 第25-32页 |
| ·X 射线衍射 | 第25-26页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第26-27页 |
| ·原子力显微镜 | 第27-28页 |
| ·振动样品磁强计 | 第28-30页 |
| ·拉曼光谱仪 | 第30-31页 |
| ·紫外-可见光吸收光谱仪 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-33页 |
| 第三章 MOCVD法制备TiO_2薄膜及其退火研究 | 第33-45页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第33-36页 |
| ·反应体系的确定 | 第33-34页 |
| ·实验装置 | 第34-35页 |
| ·基片的预处理 | 第35页 |
| ·实验流程 | 第35-36页 |
| ·沉积温度对薄膜结构影响 | 第36-38页 |
| ·薄膜的形貌表征 | 第38-40页 |
| ·薄膜的SEM 分析 | 第39页 |
| ·薄膜的AFM 分析 | 第39-40页 |
| ·退火对薄膜结构及形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·薄膜透射光谱及光禁带计算 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |
| 第四章 常压CVD法制备CrO_2薄膜及磁性研究 | 第45-54页 |
| ·CrO_2薄膜制备 | 第46-49页 |
| ·实验装置 | 第47-48页 |
| ·CrO_2薄膜的制备过程 | 第48-49页 |
| ·CrO_2薄膜测试与分析 | 第49-52页 |
| ·CrO_2薄膜的XRD分析 | 第49-50页 |
| ·CrO_2薄膜的SEM分析 | 第50-51页 |
| ·CrO_2薄膜的磁性分析 | 第51页 |
| ·CrO_2薄膜的磁电阻研究 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
| 第五章 总结 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 中文摘要 | 第57-60页 |
| 英文摘要 | 第60-63页 |