磁控溅射制备压电氮化铝薄膜及声表面波滤波器研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 1 概述 | 第10-21页 |
| ·AlN薄膜的概述 | 第10-15页 |
| ·AlN薄膜光学常数测定 | 第15-17页 |
| ·声表面波技术简介 | 第17-20页 |
| ·本论文的主要工作 | 第20-21页 |
| 2 中频磁控溅射制备AlN的原理 | 第21-31页 |
| ·磁控溅射 | 第21-25页 |
| ·AlN薄膜生长原理 | 第25-27页 |
| ·薄膜的测试分析手段 | 第27-31页 |
| 3 AlN薄膜的制备 | 第31-36页 |
| ·试验装置 | 第31页 |
| ·基本工艺参数的选择 | 第31-34页 |
| ·工艺流程 | 第34-36页 |
| 4 AlN薄膜的表面形貌和结构分析 | 第36-47页 |
| ·不同衬底温度下的AlN薄膜的表面形貌和结构分析 | 第36-41页 |
| ·不同退火条件下的AlN薄膜的表面形貌和结构分析 | 第41-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 5 AlN薄膜的光学性能 | 第47-59页 |
| ·AlN薄膜的反射率 | 第48-49页 |
| ·拟合公式 | 第49-51页 |
| ·光学模型 | 第51-52页 |
| ·拟合结果 | 第52-57页 |
| ·分析与讨论 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 6 声表面波器件制作 | 第59-65页 |
| ·采用的压电薄膜材料 | 第59页 |
| ·采用的声表面波激励结构方式 | 第59-60页 |
| ·SAW滤波器的制作 | 第60-63页 |
| ·结果分析 | 第63-65页 |
| 7 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
