磁控溅射制备TiAlN薄膜及性能分析
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-9页 |
| 1 前言 | 第9-33页 |
| ·课题背景 | 第9-10页 |
| ·表面工程技术工艺技术的近代发展 | 第10-12页 |
| ·薄膜技术的发展 | 第12-19页 |
| ·离子镀设备及应用 | 第19-28页 |
| ·我国近年来薄膜技术的发展 | 第28-29页 |
| ·课题来源及TiAlN薄膜的研究进展 | 第29-31页 |
| ·本研究的内容、意义及技术路线 | 第31-33页 |
| 2 实验设备及方法 | 第33-49页 |
| ·磁控溅射离子镀 | 第33-39页 |
| ·实验材料 | 第39-40页 |
| ·实验前基体试样的预处理 | 第40页 |
| ·实验流程 | 第40页 |
| ·实验工艺 | 第40-41页 |
| ·XRD物相检测 | 第41-42页 |
| ·表面形貌分析 | 第42页 |
| ·显微硬度的检测 | 第42-43页 |
| ·断口分析 | 第43页 |
| ·俄歇电子能谱分析 | 第43-46页 |
| ·结合力的测定 | 第46-49页 |
| 3 TiAlN薄膜的制备和成分、结构分析 | 第49-65页 |
| ·TiAlN薄膜的制备工艺 | 第49-50页 |
| ·TiAlN薄膜的XRD图谱分析 | 第50-52页 |
| ·TiAlN薄膜的XRD图谱 | 第52-60页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第60-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 4 TiAlN薄膜的主要性能及其结果分析 | 第65-73页 |
| ·TiAlN薄膜的显微硬度检测及其结果 | 第65-67页 |
| ·TiAlN薄膜的断口分析 | 第67-68页 |
| ·TiAlN薄膜的能谱分析 | 第68页 |
| ·TiAlN薄膜的结合力分析 | 第68-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 5 结论 | 第73-74页 |
| 6 参考文献 | 第74-78页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
