KTP晶体的生长与性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| ·KTP晶体的发展历程 | 第10-11页 |
| ·KTP晶体的结构 | 第11-12页 |
| ·晶体结构 | 第11-12页 |
| ·界面结构 | 第12页 |
| ·溶液(熔体)结构 | 第12页 |
| ·KTP晶体的性能 | 第12-14页 |
| ·结构和物理特性 | 第13页 |
| ·光学特性 | 第13-14页 |
| ·KTP晶体的应用 | 第14-15页 |
| ·非线性光学应用 | 第14页 |
| ·电光应用 | 第14-15页 |
| ·论文研究思路 | 第15-18页 |
| ·理论依据 | 第15-16页 |
| ·研究目的 | 第16页 |
| ·研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 KTP晶体生长研究 | 第18-32页 |
| ·KTP晶体的生长方法 | 第18-21页 |
| ·高温溶液法 | 第18-19页 |
| ·水热法 | 第19-21页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第21-23页 |
| ·生长装置及其改造 | 第21-23页 |
| ·基本仪器、试剂及其处理 | 第23页 |
| ·生长溶液的制备 | 第23-30页 |
| ·KTP晶体原料的配比 | 第23-24页 |
| ·籽晶的加工 | 第24-25页 |
| ·饱和点的测定 | 第25页 |
| ·温场的测量 | 第25-28页 |
| ·晶转及降温程序的确立 | 第28-29页 |
| ·生长后处理 | 第29-30页 |
| ·结果分析与讨论 | 第30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第3章 晶体完整性观测 | 第32-40页 |
| ·KTP晶体形态 | 第32-33页 |
| ·晶体的宏观缺陷 | 第33-36页 |
| ·晶体微观缺陷 | 第36页 |
| ·位错的侵蚀与观测 | 第36-38页 |
| ·讨论与分析 | 第38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 晶体性质和性能分析 | 第40-50页 |
| ·X-射线粉末衍射分析 | 第40-42页 |
| ·晶体掺质含量分析及其分配系数 | 第42-43页 |
| ·样品溶液的配制 | 第42页 |
| ·生长体系中掺质离子的分配系数 | 第42-43页 |
| ·分析与讨论 | 第43页 |
| ·晶体粉末倍频效应 | 第43-45页 |
| ·样品制备与测试 | 第44-45页 |
| ·分析与讨论 | 第45页 |
| ·激光损伤阈值 | 第45-46页 |
| ·透过曲线测试 | 第46-48页 |
| ·测试结果 | 第46-47页 |
| ·分析与讨论 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
