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镍基金属镀层的电沉积制备及其性能研究

摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第一章 绪论第10-38页
   ·引言第10页
   ·金属镀层的应用第10-11页
     ·合金金属镀层的应用第10-11页
     ·复合金属镀层的应用第11页
   ·电沉积制备金属镀层第11-22页
     ·几种常用的电化学方法第13-16页
       ·直流电沉积第13-14页
       ·脉冲电沉积第14-15页
       ·循环伏安沉积第15-16页
     ·金属镀层电沉积制备第16-22页
       ·金属合金镀层的电化学制备第16页
       ·复合金属镀层的电化学制备第16-22页
   ·相关电化学理论第22-26页
     ·法拉第定律第22-23页
     ·电流效率第23-24页
     ·电极电位第24-25页
     ·合金电沉积第25-26页
       ·合金共沉积的条件第25页
       ·合金共沉积的类型第25-26页
     ·循环伏安法第26页
   ·论文的选题意义第26-28页
 参考文献第28-38页
第二章 样品的制备和表征第38-46页
   ·实验试剂和仪器第38页
     ·实验所用试剂第38页
     ·实验所用仪器第38页
   ·样品的制备第38-43页
     ·铜基底上镍钴镀层的制备第38-40页
     ·ITO基底上镍钴薄膜的制备第40-42页
     ·Ni-Y_2O_3纳米复合镀层的制备第42-43页
       ·Ni-Y_2O_3纳米复合镀层的直流电沉积制备第42-43页
       ·Ni-Y_2O_3纳米复合镀层的脉冲电沉积制备第43页
   ·样品的表征与测试第43-46页
     ·XRD测试第43页
     ·SEM测试第43-44页
     ·TEM测试第44页
     ·ICP测试第44页
     ·循环伏安曲线测试第44页
     ·VSM测试第44页
     ·硬度测试第44-45页
     ·摩擦磨损的测试第45-46页
第三章 铜基底上钴镍合金镀层的制备和研究第46-64页
   ·引言第46页
   ·实验结果与讨论第46-59页
     ·pH的影响第47-54页
       ·不同pH值下的CV曲线第47-48页
       ·pH对形貌的影响第48-51页
       ·pH对镀层中钴含量的影响第51-52页
       ·不同pH值下电流效率的计算第52-54页
     ·电解液中钻离子浓度对镀层的影响第54-55页
       ·不同钴离子浓度的CV曲线第54页
       ·电解液中钴离子浓度对镀层中钴含量的影响第54-55页
     ·钻镍镀层的结晶行为第55-58页
     ·镀层磁性性能第58-59页
       ·pH值对磁性的影响第58-59页
       ·钴含量对磁性的影响第59页
 本章小结第59-61页
 参考文献第61-64页
第四章 ITO基底上钴镍薄膜的制备第64-81页
   ·引言第64-65页
   ·实验结果与讨论第65-76页
     ·CV曲线的分析第66-67页
     ·ICP分析第67-68页
     ·XRD的分析第68-70页
     ·SEM分析第70-72页
     ·烧结后分析第72-76页
       ·烧结后SEM分析第72-73页
       ·烧结后XRD分析第73-75页
       ·烧结后的磁性分析第75-76页
 本章小结第76-78页
 参考文献第78-81页
第五章 Ni-Y_2O_3纳米复合镀层的制备第81-106页
   ·引言第81页
   ·实验结果和分析第81-99页
     ·Ni-Y_2O_3纳米复合镀层的直流电沉积制备第81-94页
       ·氧化钇颗粒对还原电位和pH值的影响第83-84页
       ·镀层中氧化钇含量第84-85页
       ·镀层的形貌分析第85-89页
       ·镀层的XRD分析第89-90页
       ·镀层的硬度分析第90-92页
       ·镀层的摩擦学性质第92-94页
     ·Ni-Y_2O_3纳米复合镀层的脉冲电沉积制备第94-99页
       ·镀层中氧化钇含量第94-95页
       ·镀层的形貌分析第95-98页
       ·镀层的硬度分析第98-99页
       ·镀层的摩擦磨损分析第99页
 本章小结第99-101页
 参考文献第101-106页
第六章 结论与展望第106-109页
   ·结论第106-107页
   ·展望第107-109页
在学期间的研究成果第109-110页
致谢第110页

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