镍基金属镀层的电沉积制备及其性能研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-38页 |
·引言 | 第10页 |
·金属镀层的应用 | 第10-11页 |
·合金金属镀层的应用 | 第10-11页 |
·复合金属镀层的应用 | 第11页 |
·电沉积制备金属镀层 | 第11-22页 |
·几种常用的电化学方法 | 第13-16页 |
·直流电沉积 | 第13-14页 |
·脉冲电沉积 | 第14-15页 |
·循环伏安沉积 | 第15-16页 |
·金属镀层电沉积制备 | 第16-22页 |
·金属合金镀层的电化学制备 | 第16页 |
·复合金属镀层的电化学制备 | 第16-22页 |
·相关电化学理论 | 第22-26页 |
·法拉第定律 | 第22-23页 |
·电流效率 | 第23-24页 |
·电极电位 | 第24-25页 |
·合金电沉积 | 第25-26页 |
·合金共沉积的条件 | 第25页 |
·合金共沉积的类型 | 第25-26页 |
·循环伏安法 | 第26页 |
·论文的选题意义 | 第26-28页 |
参考文献 | 第28-38页 |
第二章 样品的制备和表征 | 第38-46页 |
·实验试剂和仪器 | 第38页 |
·实验所用试剂 | 第38页 |
·实验所用仪器 | 第38页 |
·样品的制备 | 第38-43页 |
·铜基底上镍钴镀层的制备 | 第38-40页 |
·ITO基底上镍钴薄膜的制备 | 第40-42页 |
·Ni-Y_2O_3纳米复合镀层的制备 | 第42-43页 |
·Ni-Y_2O_3纳米复合镀层的直流电沉积制备 | 第42-43页 |
·Ni-Y_2O_3纳米复合镀层的脉冲电沉积制备 | 第43页 |
·样品的表征与测试 | 第43-46页 |
·XRD测试 | 第43页 |
·SEM测试 | 第43-44页 |
·TEM测试 | 第44页 |
·ICP测试 | 第44页 |
·循环伏安曲线测试 | 第44页 |
·VSM测试 | 第44页 |
·硬度测试 | 第44-45页 |
·摩擦磨损的测试 | 第45-46页 |
第三章 铜基底上钴镍合金镀层的制备和研究 | 第46-64页 |
·引言 | 第46页 |
·实验结果与讨论 | 第46-59页 |
·pH的影响 | 第47-54页 |
·不同pH值下的CV曲线 | 第47-48页 |
·pH对形貌的影响 | 第48-51页 |
·pH对镀层中钴含量的影响 | 第51-52页 |
·不同pH值下电流效率的计算 | 第52-54页 |
·电解液中钻离子浓度对镀层的影响 | 第54-55页 |
·不同钴离子浓度的CV曲线 | 第54页 |
·电解液中钴离子浓度对镀层中钴含量的影响 | 第54-55页 |
·钻镍镀层的结晶行为 | 第55-58页 |
·镀层磁性性能 | 第58-59页 |
·pH值对磁性的影响 | 第58-59页 |
·钴含量对磁性的影响 | 第59页 |
本章小结 | 第59-61页 |
参考文献 | 第61-64页 |
第四章 ITO基底上钴镍薄膜的制备 | 第64-81页 |
·引言 | 第64-65页 |
·实验结果与讨论 | 第65-76页 |
·CV曲线的分析 | 第66-67页 |
·ICP分析 | 第67-68页 |
·XRD的分析 | 第68-70页 |
·SEM分析 | 第70-72页 |
·烧结后分析 | 第72-76页 |
·烧结后SEM分析 | 第72-73页 |
·烧结后XRD分析 | 第73-75页 |
·烧结后的磁性分析 | 第75-76页 |
本章小结 | 第76-78页 |
参考文献 | 第78-81页 |
第五章 Ni-Y_2O_3纳米复合镀层的制备 | 第81-106页 |
·引言 | 第81页 |
·实验结果和分析 | 第81-99页 |
·Ni-Y_2O_3纳米复合镀层的直流电沉积制备 | 第81-94页 |
·氧化钇颗粒对还原电位和pH值的影响 | 第83-84页 |
·镀层中氧化钇含量 | 第84-85页 |
·镀层的形貌分析 | 第85-89页 |
·镀层的XRD分析 | 第89-90页 |
·镀层的硬度分析 | 第90-92页 |
·镀层的摩擦学性质 | 第92-94页 |
·Ni-Y_2O_3纳米复合镀层的脉冲电沉积制备 | 第94-99页 |
·镀层中氧化钇含量 | 第94-95页 |
·镀层的形貌分析 | 第95-98页 |
·镀层的硬度分析 | 第98-99页 |
·镀层的摩擦磨损分析 | 第99页 |
本章小结 | 第99-101页 |
参考文献 | 第101-106页 |
第六章 结论与展望 | 第106-109页 |
·结论 | 第106-107页 |
·展望 | 第107-109页 |
在学期间的研究成果 | 第109-110页 |
致谢 | 第110页 |