适用于声表面波器件的ZnO/diamond多层膜的制备研究

摘要	第1-6页
Abstract	第6-10页
第一章 绪论	第10-17页
·声表面波器件的基本结构	第10-11页
·CVD 金刚石膜在声表面波器件中的应用	第11-12页
·ZnO 薄膜材料在声表面波器件中的应用	第12-13页
·声表面波器件的发展及应用	第13-16页
·本论文的主要工作	第16-17页
第二章 CVD 金刚石膜的生长机理	第17-28页
·低压化学气相沉积金刚石膜的条件	第17-18页
·CVD 金刚石膜的主要制备方法	第18-21页
·低压化学气相沉积金刚石膜的原理	第21-22页
·CVD 金刚石膜的化学生长过程	第22-28页
·反应气体的分布	第22-23页
·CVD 金刚石膜的形核	第23-24页
·CVD 金刚石膜的亚稳态生长	第24-25页
·CVD 金刚石膜的生长模型	第25-28页
第三章 直流等离子体喷射CVD 法制备金刚石膜	第28-44页
·直流电弧等离子体喷射CVD 系统简介	第28-30页
·金刚石薄膜质量的影响因素	第30-31页
·金刚石膜的生长特性研究	第31-41页
·衬底预处理对金刚石膜生长的影响	第31-34页
·金刚石膜的截面特性研究	第34-35页
·衬底温度对金刚石膜生长的影响	第35-39页
·碳源浓度对金刚石膜生长的影响	第39-41页
·适用于声表面波器件的金刚石膜制备	第41-43页
·本章小结	第43-44页
第四章 ZnO/diamond 多层膜的制备	第44-57页
·射频磁控溅射系统简介	第44-46页
·金刚石衬底的制备	第46-50页
·ZnO/diamond 多层膜的制备	第50-55页
·不同衬底温度对ZnO 薄膜的影响	第50-52页
·Ar/O_2比对薄膜的影响	第52-55页
·本章小结	第55-57页
第五章 本文总结	第57-58页
参考文献	第58-63页
发表论文和科研情况说明	第63-64页
致谢	第64-65页