| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 课题研究综述 | 第9-18页 |
| ·ITO 薄膜的特性和应用 | 第9-10页 |
| ·ITO 薄膜的特性 | 第9页 |
| ·ITO 薄膜的应用 | 第9-10页 |
| ·激光加工系统概述 | 第10-13页 |
| ·激光加工的类型与应用 | 第10-12页 |
| ·激光刻蚀ITO 薄膜加工系统的实现 | 第12-13页 |
| ·化学蚀刻ITO 图形工艺流程 | 第13-15页 |
| ·激光刻蚀ITO 薄膜技术的发展现状及前景 | 第15-16页 |
| ·本论文的主要工作 | 第16-17页 |
| ·本论文的创新点 | 第17-18页 |
| 第二章 激光刻蚀的光学理论基础 | 第18-28页 |
| ·高斯光束特性 | 第18-19页 |
| ·匀光系统介绍 | 第19-25页 |
| ·ITO 薄膜激光刻蚀类平顶光技术概述 | 第19-24页 |
| ·光束整形器件的应用 | 第24-25页 |
| ·振镜扫描加工分析 | 第25-27页 |
| ·物镜前扫描理论基础 | 第25页 |
| ·动态聚焦结构原理 | 第25-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 ITO 薄膜激光刻蚀的结构及控制系统介绍 | 第28-39页 |
| ·ITO 薄膜激光刻蚀设备(LES-ITO500)综述 | 第28-30页 |
| ·ITO 薄膜激光刻蚀设备的设计原理 | 第28页 |
| ·LES-ITO500 结构组成 | 第28-30页 |
| ·激光器的选择及控制 | 第30-36页 |
| ·F3w-120/355nm 激光器介绍 | 第31页 |
| ·F3w-120/355nm 激光器工作原理 | 第31-34页 |
| ·F3w-120/355nm 激光器的控制 | 第34-36页 |
| ·匀光系统的介绍 | 第36页 |
| ·F-theta 聚焦镜的介绍 | 第36-38页 |
| ·高斯光束的聚焦原理 | 第36-37页 |
| ·聚焦光斑尺寸的计算 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 ITO 薄膜激光刻蚀的电气控制系统 | 第39-53页 |
| ·运动控制部分介绍 | 第39-43页 |
| ·基于运动控制卡的全闭环控制系统介绍 | 第39-40页 |
| ·X 轴平台伺服电机全闭环控制系统 | 第40-41页 |
| ·X 轴控制系统的硬件电路实现 | 第41-43页 |
| ·激光开关光控制 | 第43-51页 |
| ·位置比较板卡硬件电路实现 | 第43-44页 |
| ·数据存储模块 | 第44-45页 |
| ·计数比较模块 | 第45-47页 |
| ·编码器输入模块 | 第47-50页 |
| ·激光输出控制模块 | 第50-51页 |
| ·PIO 控制部分 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 基于PIC 单片机的位置比较系统实现 | 第53-58页 |
| ·主程序介绍 | 第53-56页 |
| ·程序调试 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第六章 结论与展望 | 第58-60页 |
| ·主要研究工作 | 第58-59页 |
| ·展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |