| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-34页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 单晶高温合金 | 第11-14页 |
| 1.3 高温防护涂层 | 第14-22页 |
| 1.3.1 简单铝化物涂层 | 第14-15页 |
| 1.3.2 改进型铝化物涂层 | 第15-17页 |
| 1.3.3 MCrAlY包覆涂层 | 第17-18页 |
| 1.3.4 热障涂层 | 第18-20页 |
| 1.3.5 新型高温防护涂层 | 第20-22页 |
| 1.4 涂层的退化 | 第22-25页 |
| 1.5 纳米晶防护涂层 | 第25-31页 |
| 1.5.1 纳米晶涂层设计理念 | 第25页 |
| 1.5.2 纳米晶涂层的发展 | 第25-31页 |
| 1.5.3 纳米晶涂层改性研究 | 第31页 |
| 1.6 本文的研究目的和内容 | 第31-34页 |
| 第2章 涂层的制备与实验方法 | 第34-46页 |
| 2.1 引言 | 第34页 |
| 2.2 基体合金的选择 | 第34-35页 |
| 2.3 涂层的制备 | 第35-40页 |
| 2.3.1 磁控溅射纳米晶涂层 | 第35-38页 |
| 2.3.2 多弧离子镀NiCrAlY涂层 | 第38-40页 |
| 2.4 高温氧化实验方法 | 第40-41页 |
| 2.5 采用的检测技术 | 第41-45页 |
| 2.5.1 X射线衍射分析 | 第41-42页 |
| 2.5.2 扫描电子显微镜 | 第42-43页 |
| 2.5.3 透射电子显微镜 | 第43-45页 |
| 2.6 小结 | 第45-46页 |
| 第3章 纳米晶涂层短期氧化行为研究 | 第46-65页 |
| 3.1 引言 | 第46页 |
| 3.2 纳米晶涂层短期氧化实验流程 | 第46-47页 |
| 3.3 短期氧化行为研究 | 第47-58页 |
| 3.3.1 纳米晶涂层 900℃氧化行为 | 第47-50页 |
| 3.3.2 纳米晶涂层 1000℃氧化行为 | 第50-52页 |
| 3.3.3 纳米晶涂层 1100℃氧化行为 | 第52-58页 |
| 3.4 纳米晶涂层抗氧化机理研究 | 第58-63页 |
| 3.4.1 纳米晶涂层对基体的抗氧化性能的影响 | 第58-61页 |
| 3.4.2 活性元素效应 | 第61-62页 |
| 3.4.3 氧化模型的建立 | 第62-63页 |
| 3.5 小结 | 第63-65页 |
| 第4章 纳米晶涂层长期氧化行为研究 | 第65-82页 |
| 4.1 引言 | 第65-66页 |
| 4.2 纳米晶涂层长期氧化实验流程 | 第66页 |
| 4.3 长期氧化行为研究 | 第66-80页 |
| 4.3.1 纳米晶涂层 1000℃恒温氧化1000小时氧化行为 | 第66-73页 |
| 4.3.2 纳米晶涂层 1100℃恒温氧化1000小时氧化行为 | 第73-79页 |
| 4.3.3 纳米晶涂层循环氧化行为 | 第79-80页 |
| 4.4 小结 | 第80-82页 |
| 第5章 Y改性纳米晶涂层氧化行为研究 | 第82-97页 |
| 5.1 引言 | 第82-83页 |
| 5.2 改性纳米晶涂层短期氧化实验流程 | 第83页 |
| 5.3 短期氧化行为研究 | 第83-92页 |
| 5.3.1 氧化动力学 | 第83-84页 |
| 5.3.2 两组纳米晶涂层氧化后相的组成 | 第84-85页 |
| 5.3.3 两组纳米晶涂层经氧化后表面截面微观结构 | 第85-92页 |
| 5.4 活性元素Y改性纳米晶涂层抗氧化机理研究 | 第92-96页 |
| 5.4.1 活性元素对氧化速率的影响 | 第92-93页 |
| 5.4.2 活性元素对膜层起伏的影响 | 第93-95页 |
| 5.4.3 活性元素对Ta氧化行为的影响 | 第95-96页 |
| 5.5 小结 | 第96-97页 |
| 结论 | 第97-99页 |
| 参考文献 | 第99-111页 |
| 攻读博士期间发表的论文和取得的科研成果 | 第111-113页 |
| 致谢 | 第113-114页 |
