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中和器场发射电子源设计与研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第10-22页
    1.1 研究背景第10-12页
    1.2 中和器的研究进展第12-13页
    1.3 场发射中和器第13页
    1.4 场发射阴极材料的发展第13-18页
        1.4.1 场发射阴极材料的发展第13-14页
        1.4.2 碳纳米管冷阴极材料第14-17页
        1.4.3 碳纳米管冷阴极材料制备第17-18页
    1.5 离子轰击对真空器件的影响第18-19页
    1.6 选题意义及课题主要工作第19-22页
第二章 场发射机理与离子轰击理论第22-30页
    2.1 场发射理论基础第22-25页
        2.1.1 电子发射的原理第22-24页
        2.1.2 场发射Flower-Nordheim理论第24-25页
    2.2 电子碰撞气体电离原理第25-27页
    2.3 离子溅射的基本理论第27-28页
    2.4 本章小结第28-30页
第三章 碳纳米管场发射电子源的设计与研究第30-42页
    3.1 场致发射性能测试第30-36页
        3.1.1 碳纳米管二极结构发射特性第30-32页
        3.1.2 场致发射大电流(直流)测试第32-34页
        3.1.3 场致发射大电流(脉冲)测试第34-36页
    3.2 场发射三极结构栅网透过率研究第36-39页
        3.2.1 方形栅网透过率的仿真研究第37-38页
        3.2.2 实验测试及结果分析第38-39页
    3.3 场发射三极结构阵列栅网透过率仿真研究第39-41页
        3.3.1 场发射阵列栅网透过率模拟计算第39-41页
    3.4 本章小结第41-42页
第四章 降低场致发射栅网截获率的实验研究第42-54页
    4.1 场致发射双栅结构设计第42-46页
        4.1.1 双栅结构影响因素第42-44页
        4.1.2 双栅结构降低栅网截获率测试第44-46页
    4.2 场发射侧阴极结构的设计及优化第46-52页
        4.2.1 侧阴极结构设计第48-49页
        4.2.2 阴极角度对场发射性能的影响第49-50页
        4.2.3 侧阴极结构设计及实验测试第50-52页
    4.3 场致发射双栅结构与侧阴极结构对比第52页
    4.4 本章小结第52-54页
第五章 场发射三极结构下减弱离子轰击的研究第54-68页
    5.1 离子轰击阴极的研究第54-56页
    5.2 屏蔽极结构对离子轰击的作用的研究第56-60页
    5.3 减弱离子轰击测试第60-66页
        5.3.1 增加屏蔽极阴极电流变化及其稳定性测试第60-64页
        5.3.2 充入CO_2气体屏蔽极屏蔽效果的测试第64-66页
    5.4 本章小结第66-68页
第六章 总结与展望第68-72页
    6.1 总结第68-69页
    6.2 展望第69-72页
致谢第72-74页
参考文献第74-78页
作者简介第78页

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