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TiN、Ti-W-N及Ti-W-V-N薄膜的微结构及力学与摩擦学性能研究

摘要第6-8页
Abstract第8-9页
第1章 绪论第14-22页
    1.1 引言第14-15页
    1.2 固态润滑薄膜的研究现状第15-16页
    1.3 薄膜的制备方法第16-17页
    1.4 纳米复合膜第17-19页
        1.4.1 纳米复合膜概述第17-18页
        1.4.2 纳米复合膜的硬度强化机制第18-19页
    1.5 薄膜的生长方式第19-20页
    1.6 选题意义与研究内容第20-22页
        1.6.1 选题意义第20-21页
        1.6.2 研究内容第21-22页
第2章 薄膜的制备与表征方法第22-27页
    2.1 薄膜的制备方法第22-23页
        2.1.1 磁控溅射镀膜的原理第22-23页
        2.1.2 薄膜的制备设备第23页
    2.2 薄膜的衬底材料第23-24页
    2.3 薄膜的表征设备第24-27页
        2.3.1 X射线衍射(XRD)第24页
        2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)第24页
        2.3.3 能量色散谱仪(EDS)第24-25页
        2.3.4 透射电子显微镜(TEM)第25页
        2.3.5 纳米力学综合测试系统第25-26页
        2.3.6 摩擦磨损试验机第26页
        2.3.7 表面轮廓仪第26页
        2.3.8 激光共聚焦扫描显微镜(LSCM)第26-27页
第3章 TiN薄膜的制备及性能研究第27-44页
    3.1 引言第27页
    3.2 TiN薄膜的制备与表征第27-29页
        3.2.1 TiN薄膜的制备第27-28页
        3.2.2 TiN薄膜的表征第28-29页
    3.3 实验结果与讨论第29-43页
        3.3.1 TiN薄膜的成分与微结构第29-31页
        3.3.2 TiN薄膜的相形成能计算第31-34页
        3.3.3 TiN薄膜的硬度第34-36页
        3.3.4 TiN薄膜的室温摩擦磨损性能第36-39页
        3.3.5 TiN薄膜的高温摩擦磨损性能第39-43页
    3.4 本章小结第43-44页
第4章 Ti-W-N薄膜的制备及性能研究第44-62页
    4.1 引言第44页
    4.2 Ti-W-N薄膜的制备与表征第44-46页
        4.2.1 Ti-W-N薄膜的制备第44-45页
        4.2.2 Ti-W-N薄膜的表征第45-46页
    4.3 实验结果与讨论第46-60页
        4.3.1 Ti-W-N薄膜的成分与微结构第46-50页
        4.3.2 Ti-W-N薄膜的缺陷形成能第50-53页
        4.3.3 Ti-W-N薄膜的力学性能第53-56页
        4.3.4 Ti-W-N薄膜的膜基结合力第56-58页
        4.3.5 Ti-W-N薄膜的摩擦磨损性能第58-60页
    4.4 本章小结第60-62页
第5章 Ti-W-V-N薄膜的制备及性能研究第62-75页
    5.1 引言第62页
    5.2 Ti-W-V-N薄膜的制备与表征第62-64页
        5.2.1 Ti-W-V-N薄膜的制备第62-63页
        5.2.2 Ti-W-V-N薄膜的表征第63-64页
    5.3 实验结果与讨论第64-73页
        5.3.1 Ti-W-V-N薄膜的成分与微结构第64-68页
        5.3.2 Ti-W-V-N薄膜的力学性能第68-70页
        5.3.3 Ti-W-V-N薄膜高温摩擦磨损性能第70-73页
    5.4 本章小结第73-75页
结论第75-77页
参考文献第77-85页
攻读硕士学位期间所发表的学术论文第85-86页
致谢第86页

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