| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 铁氧体材料的微波应用 | 第10页 |
| 1.2 铁氧体材料分类 | 第10-12页 |
| 1.2.1 尖晶石铁氧体 | 第10-11页 |
| 1.2.2 石榴石铁氧体 | 第11页 |
| 1.2.3 磁铅石铁氧体 | 第11-12页 |
| 1.3 M型钡铁氧体（BaM）的结构和性能 | 第12-14页 |
| 1.3.1 BaM铁氧体晶体结构 | 第12-13页 |
| 1.3.2 绝对零度下BaM铁氧体的理论饱和磁化强度计算 | 第13-14页 |
| 1.4 BaM材料的毫米波应用 | 第14-15页 |
| 1.5 BaM铁氧体薄膜的研究现状 | 第15-17页 |
| 1.6 发展态势 | 第17页 |
| 1.7 磁控溅射法制备BaM材料 | 第17-19页 |
| 1.8 论文主要内容及结构安排 | 第19-21页 |
| 第二章 磁控溅射法制备M型钡铁氧体薄膜 | 第21-37页 |
| 2.1 M型钡铁氧体薄膜制备及性能表征 | 第21-25页 |
| 2.1.1 X射线衍射仪（XRD） | 第21-23页 |
| 2.1.2 场发射扫描电镜（FESEM） | 第23-24页 |
| 2.1.3 振动样品磁强计（VSM） | 第24-25页 |
| 2.2 衬底温度对BaM薄膜性能的影响 | 第25-29页 |
| 2.2.1 BaM薄膜的制备工艺 | 第25页 |
| 2.2.2 衬底温度对薄膜晶体结构的影响 | 第25-28页 |
| 2.2.3 衬底温度对BaM薄膜磁性能的影响 | 第28-29页 |
| 2.3 溅射气压对BaM薄膜性能的影响 | 第29-33页 |
| 2.3.1 BaM薄膜的制备工艺 | 第29-30页 |
| 2.3.2 不同溅射气压对BaM薄膜晶体结构的影响 | 第30-31页 |
| 2.3.3 不同溅射气压对BaM薄膜磁性能的影响 | 第31-33页 |
| 2.4 退火温度对BaM膜性能的影响 | 第33-36页 |
| 2.4.1 BaM薄膜的制备工艺 | 第33-34页 |
| 2.4.2 不同退火温度对BaM薄膜晶体结构的影响 | 第34-35页 |
| 2.4.3 不同退火温度对BaM薄膜磁性能的影响 | 第35-36页 |
| 2.5 本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 薄膜厚度对BaM薄膜性能的影响 | 第37-45页 |
| 3.1 BaM薄膜的制备工艺 | 第37-38页 |
| 3.2 不同厚度对BaM薄膜晶体结构的影响 | 第38-41页 |
| 3.3 不同厚度对BaM薄膜磁性能的影响 | 第41-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 分层溅射法制备双层M型钡铁氧体薄膜 | 第45-56页 |
| 4.1 双层M型钡铁氧体薄膜的制备 | 第46-48页 |
| 4.2 M型钡铁氧体薄膜的晶体结构比较 | 第48-51页 |
| 4.3 M型钡铁氧体薄膜的磁性能比较 | 第51-52页 |
| 4.4 M型钡铁氧体薄膜的应力分析 | 第52-55页 |
| 4.4.1 XRD衍射法分析薄膜应力 | 第52-53页 |
| 4.4.2 曲率半径法分析薄膜应力 | 第53-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 三层M型钡铁氧体薄膜研究 | 第56-60页 |
| 5.1 三层M型钡铁氧体薄膜的制备 | 第56-57页 |
| 5.2 M型钡铁氧体薄膜的晶体结构比较 | 第57-59页 |
| 5.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 第六章 结论 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第65-66页 |
