摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-21页 |
1.1 研究的目的和意义 | 第9-10页 |
1.2 国内外在该方向的研究现状及分析 | 第10-20页 |
1.2.1 激光损伤特征与机理的研究现状 | 第10-15页 |
1.2.2 激光损伤动态行为的研究探索 | 第15-18页 |
1.2.3 激光损伤动态测试方法的研究发展 | 第18-19页 |
1.2.4 研究现状小结 | 第19-20页 |
1.3 本文主要研究内容及章节安排 | 第20-21页 |
第2章 纳秒时间分辨的损伤成像系统设计原理 | 第21-32页 |
2.1 时间分辨的泵浦—探测原理 | 第21-22页 |
2.2 等离子体参数测量原理 | 第22-27页 |
2.2.1 干涉测量系统 | 第22-23页 |
2.2.2 等离子体折射率的测量原理 | 第23-25页 |
2.2.3 等离子体电子密度的测量原理 | 第25-27页 |
2.3 KDP晶体后表面损伤动态行为实验系统设计 | 第27-31页 |
2.4 本章小结 | 第31-32页 |
第3章 紫外激光诱导KDP晶体后表面冲击波行为研究 | 第32-48页 |
3.1 激光诱导冲击波过程的物理模型 | 第32-33页 |
3.2 KDP晶体后表面损伤冲击波行为实验 | 第33-41页 |
3.2.1 KDP晶体后表面单发次损伤冲击波 | 第35-40页 |
3.2.2 KDP晶体后表面多发次损伤冲击波 | 第40-41页 |
3.3 等离子体的电子密度测量 | 第41-45页 |
3.4 晶体材料和非晶材料后表面损伤冲击波行为对比 | 第45-46页 |
3.5 本章小结 | 第46-48页 |
第4章 紫外激光诱导KDP晶体后表面喷溅行为研究 | 第48-56页 |
4.1 KDP晶体后表面损伤喷溅行为实验 | 第48-52页 |
4.1.1 KDP晶体后表面单发次损伤喷溅 | 第49-51页 |
4.1.2 KDP晶体后表面多发次损伤喷溅 | 第51-52页 |
4.2 后表面喷溅距离测量结果 | 第52-53页 |
4.3 晶体材料和非晶材料后表面损伤喷溅行为对比 | 第53-55页 |
4.4 本章小结 | 第55-56页 |
结论 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-63页 |
致谢 | 第63页 |