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强等离子体耦合作用下的6H-SiC折叠声子模研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第9-23页
    1.1 拉曼散射的基本概念第9-12页
        1.1.1 拉曼的经典理论解释第9-11页
        1.1.2 拉曼的量子理论解释第11-12页
    1.2 SiC的晶体结构第12-13页
    1.3 SiC材料的研究现状第13-17页
        1.3.1 高压电子器件第13-14页
        1.3.2 生长缺陷的控制第14-15页
        1.3.3 SiC在其他领域的应用第15-17页
    1.4 等离子体-声子耦合研究现状第17-19页
        1.4.1 Ⅲ-Ⅴ族半导体和SiC的等离子体-声子耦合模第17-19页
        1.4.2 金属氧化物的等离子体-声子耦合模第19页
    1.5 本论文的出发点和研究内容第19-20页
    参考文献第20-23页
第二章 6H-SiC样品的制备、表征和表面修饰第23-34页
    2.1 引言第23页
    2.2 6H-SiC的制备和表征第23-25页
        2.2.1 6H-SiC样品的制备第23页
        2.2.2 6H-SiC微晶薄膜的SEM、XRD和厚度表征第23-25页
    2.3 6H-SiC的表面修饰第25-30页
        2.3.1 表面修饰原理第26-28页
        2.3.2 6H-SC修饰前后对比第28-30页
    2.4 本章小结第30-31页
    参考文献第31-34页
第三章 6H-SiC等离子体-折叠声子耦合模研究第34-47页
    3.1 引言第34-35页
    3.2 折叠声子模的由来和拉曼光谱的洛伦兹拟合第35-39页
        3.2.1 折叠声子模的产生第35-36页
        3.2.2 折叠声子模的各向异性第36-37页
        3.2.3 折叠声子模的洛伦兹拟合第37-39页
    3.3 样品粒径和厚度对等离子体-折叠声子耦合模的影响第39-44页
        3.3.1 样品厚度和粒径对耦合模的影响第39-41页
        3.3.2 不同样品的UV-VIS-IR吸收图谱分析第41-42页
        3.3.3 理论计算第42-44页
    3.4 本章小结第44-45页
    参考文献第45-47页
第四章 总结与展望第47-48页
攻读硕士学位期间已发表的论文第48-49页
致谢第49-50页

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