| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 第1章 前言 | 第8-20页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 多晶硅的生产工艺 | 第9-12页 |
| 1.2.1 改良西门子法 | 第9-10页 |
| 1.2.2 硅烷法 | 第10-11页 |
| 1.2.3 冶金法 | 第11页 |
| 1.2.4 多晶硅生产方法的比较 | 第11-12页 |
| 1.3 改良西门子法生产工艺的发展历史 | 第12页 |
| 1.4 国内外多晶硅生产现状 | 第12-18页 |
| 1.4.1 国内外多晶硅生产现况 | 第12-13页 |
| 1.4.2 国内外多晶硅生产状况对比 | 第13-14页 |
| 1.4.3 多晶硅市场价格分析 | 第14-16页 |
| 1.4.4 国内外多晶硅还原工艺模拟情况分析 | 第16-18页 |
| 1.5 课题研究目的及主要内容 | 第18-20页 |
| 1.5.1 课题研究的目的及意义 | 第18-19页 |
| 1.5.2 研究的主要内容 | 第19-20页 |
| 第2章 PolySim模拟软件与还原生产工艺流程 | 第20-32页 |
| 2.1 化工过程模拟 | 第20-21页 |
| 2.2 PolySim软件介绍 | 第21-22页 |
| 2.3 多晶硅还原生产工艺流程 | 第22-27页 |
| 2.3.1 多晶硅还原反应机理 | 第22-26页 |
| 2.3.2 多晶硅还原工艺流程 | 第26-27页 |
| 2.4 CVD还原炉PolySim模拟简介 | 第27-32页 |
| 2.4.1 PolySim 3D模拟操作 | 第27-30页 |
| 2.4.2 PolySim 1D模拟操作 | 第30-32页 |
| 第3章 CVD还原炉PolySim软件模拟优化的研究 | 第32-45页 |
| 3.1 喷嘴布局相关模拟优化 | 第32-38页 |
| 3.1.1 基础模型建立 | 第32-33页 |
| 3.1.2 基础模型模拟可视化结果分析 | 第33-35页 |
| 3.1.3 喷嘴布局优化设计模拟分析 | 第35-37页 |
| 3.1.4 修正后的喷嘴布局与原喷嘴布局比较 | 第37-38页 |
| 3.2 提升沉积速率降菜花相关模拟优化 | 第38-41页 |
| 3.3 菜花料与转化率、沉积速率的关系 | 第41-44页 |
| 3.4 小结 | 第44-45页 |
| 第4章 大型还原炉生产工艺开发 | 第45-60页 |
| 4.1 48对棒还原炉工艺流程的开发改进 | 第45-48页 |
| 4.2 48对棒还原炉多晶硅生长的物理模型 | 第48-55页 |
| 4.3 48对棒还原炉的运行控制方法 | 第55-59页 |
| 4.3.1 供料和温度控制方法研究 | 第56-57页 |
| 4.3.2 电流自动控制方法 | 第57-59页 |
| 4.4 小结 | 第59-60页 |
| 第5章 结论与展望 | 第60-62页 |
| 5.1 本文结论 | 第60-61页 |
| 5.2 展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |