| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第16-40页 |
| 1.1 引言 | 第16页 |
| 1.2 衍射极限 | 第16-19页 |
| 1.3 超透镜及光刻成像的研究现状及进展 | 第19-23页 |
| 1.3.1 平面超透镜(Superlens) | 第19-22页 |
| 1.3.2 曲面超透镜(Hyperlens) | 第22-23页 |
| 1.4 表面显微成像的研究现状和进展 | 第23-33页 |
| 1.4.1 全内反射荧光显微技术 | 第25-29页 |
| 1.4.2 表面等离子体显微术 | 第29-33页 |
| 1.5 负折射率材料成像研究现状和进展 | 第33-37页 |
| 1.6 论文研究内容及章节安排 | 第37-40页 |
| 第2章 表面等离子体基础 | 第40-58页 |
| 2.1 表面等离子体存在的基本条件 | 第40-42页 |
| 2.2 表面等离子体的基本电磁特性 | 第42-47页 |
| 2.2.1 金属材料的Drude模型 | 第42-44页 |
| 2.2.2 表面等离子体的色散模型及特征参数 | 第44-47页 |
| 2.3 金属-介质交替薄膜材料的等效介质理论分析 | 第47-50页 |
| 2.4 表面等离子体激发方式 | 第50-53页 |
| 2.4.1 棱镜耦合激发 | 第50-51页 |
| 2.4.2 光栅耦合激发 | 第51-52页 |
| 2.4.3 表面缺陷激发 | 第52-53页 |
| 2.4.4 其他激发方式 | 第53页 |
| 2.5 电磁场计算方法 | 第53-56页 |
| 2.5.1 时域有限差分法 | 第54-55页 |
| 2.5.2 有限元法 | 第55-56页 |
| 2.6 本章小结 | 第56-58页 |
| 第3章 基于光频超衍射材料的近场增强成像方法研究 | 第58-72页 |
| 3.1 应用于光刻成像的BPI结构设计 | 第59-66页 |
| 3.1.1 BPI激发结构设计原理 | 第60-64页 |
| 3.1.2 BPI照明下表面等离子体腔超透镜的成像仿真 | 第64-66页 |
| 3.2 应用于显微成像的SP激发结构设计 | 第66-70页 |
| 3.2.1 Ag层增强表征实验原理分析 | 第66-68页 |
| 3.2.2 实验装置 | 第68-69页 |
| 3.2.3 实验结果与讨论 | 第69-70页 |
| 3.3 本章小结 | 第70-72页 |
| 第4章 均匀深亚波长穿透深度的SP表面显微结构设计及分析 | 第72-100页 |
| 4.1 设计原理 | 第73-75页 |
| 4.2 单一穿透深度SP表面显微照明结构设计 | 第75-77页 |
| 4.3 穿透深度可调的SP表面显微照明结构设计 | 第77-93页 |
| 4.3.1 结构设计及分析 | 第77-80页 |
| 4.3.2 宽频带性能 | 第80-83页 |
| 4.3.3 金属/介质膜层厚度的影响 | 第83-84页 |
| 4.3.4 样本折射率影响 | 第84-85页 |
| 4.3.5 BPP照明下的纳米颗粒成像 | 第85-86页 |
| 4.3.6 BPP照明结构和图形制备 | 第86-89页 |
| 4.3.7 超短照明深度的表面显微成像实验 | 第89-93页 |
| 4.4 近场倏逝波穿透深度的双层荧光染料光谱远场检测方法原理及分析 | 第93-98页 |
| 4.4.1 理论模型及分析 | 第94-96页 |
| 4.4.2 初步实验及结果分析 | 第96-98页 |
| 4.4.3 目前存在的不足及后期工作改进 | 第98页 |
| 4.5 本章小结 | 第98-100页 |
| 第5章 基于光频负折射材料的SP近场光刻成像 | 第100-120页 |
| 5.1 原理结构 | 第100-101页 |
| 5.2 单线条成像理论分析 | 第101-107页 |
| 5.2.1 空气距、半宽、强度随金属-介质对厚度的变化情况 | 第102-103页 |
| 5.2.2 空气距、半宽、强度随介质占空比的变化情况 | 第103-104页 |
| 5.2.3 空气距、半宽、强度随物像关系的变化情况 | 第104-105页 |
| 5.2.4 空气距、半宽、强度随浸没环境的变化情况 | 第105页 |
| 5.2.5 空气距随金属-介质对数目的变化情况 | 第105-106页 |
| 5.2.6 空气距随介质介电常数的变化情况 | 第106-107页 |
| 5.3 密集线条成像理论分析 | 第107-115页 |
| 5.3.1 金属/介质单元厚度对光刻性能的影响 | 第107-108页 |
| 5.3.2 金属/介质单元中介质占空比对光刻性能的影响 | 第108-109页 |
| 5.3.3 金属/介质单元膜层对数对光刻性能的影响 | 第109-110页 |
| 5.3.4 入射光偏振对光刻性能的影响 | 第110-111页 |
| 5.3.5 理论光刻结果与分析 | 第111-112页 |
| 5.3.6 周期光栅二维成像模拟 | 第112-115页 |
| 5.4 二维环状图形成像模拟 | 第115-116页 |
| 5.5 结构制备 | 第116-118页 |
| 5.6 曝光结果及分析 | 第118-119页 |
| 5.7 本章小结 | 第119-120页 |
| 第6章 结束语 | 第120-122页 |
| 6.1 论文的主要创新点 | 第120-121页 |
| 6.2 存在问题及后期工作展望 | 第121-122页 |
| 参考文献 | 第122-134页 |
| 致谢 | 第134-136页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第136-137页 |
