| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 石墨烯的结构与性质 | 第11-20页 |
| 1.2.1 石墨烯的结构 | 第11-17页 |
| 1.2.2 石墨烯的电学性质 | 第17-18页 |
| 1.2.3 石墨烯的力/热学特性 | 第18-19页 |
| 1.2.4 石墨烯的光学特性 | 第19-20页 |
| 1.3 石墨烯的应用 | 第20-23页 |
| 1.3.1 石墨烯基纳电子器件 | 第20-21页 |
| 1.3.2 石墨烯复合材料 | 第21-22页 |
| 1.3.3 石墨烯储能器件 | 第22-23页 |
| 1.3.4 其他领域 | 第23页 |
| 1.4 石墨烯的制备方法 | 第23-27页 |
| 1.4.1 微机械剥离法 | 第23-24页 |
| 1.4.2 热解碳化硅外延生长法 | 第24-25页 |
| 1.4.3 氧化还原法 | 第25-26页 |
| 1.4.4 化学气相沉积法 | 第26-27页 |
| 1.5 本文的研究意义和主要工作 | 第27-29页 |
| 第二章 蓝宝石衬底上石墨烯的形成及其机理与研究 | 第29-43页 |
| 2.1 引言 | 第29-31页 |
| 2.2 实验部分 | 第31-33页 |
| 2.2.1 实验药品 | 第31-32页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第32页 |
| 2.2.3 实验过程 | 第32-33页 |
| 2.3 样品表征及数据分析 | 第33-42页 |
| 2.3.1 生长温度的影响 | 第35-36页 |
| 2.3.2 生长时间的影响 | 第36-38页 |
| 2.3.3 气体流量比的影响 | 第38-42页 |
| 2.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第三章 Si、SiO_2/Si衬底上石墨烯的形成及其机理研究 | 第43-51页 |
| 3.1 引言 | 第43页 |
| 3.2 实验部分 | 第43-44页 |
| 3.2.1 实验材料及仪器 | 第43页 |
| 3.2.2 实验过程 | 第43-44页 |
| 3.3 样品表征与结果分析 | 第44-49页 |
| 3.3.1 参照实验 | 第44-45页 |
| 3.3.2 合适的生长温度 | 第45-46页 |
| 3.3.3 气体流量比的影响 | 第46-48页 |
| 3.3.4 低压CVD | 第48-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 总结与展望 | 第51-53页 |
| 4.1 论文总结 | 第51-52页 |
| 4.2 工作展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 在校期间发表的论文、科研成果等 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |