| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 前言 | 第11页 |
| 1.2 膜的类型及应用 | 第11-15页 |
| 1.2.1 膜技术的分类及主要作用机制 | 第12-14页 |
| 1.2.2 膜技术的主要传质理论 | 第14-15页 |
| 1.3 膜技术的主要面临问题 | 第15-18页 |
| 1.3.1 影响膜污染的因素 | 第15-17页 |
| 1.3.2 膜污染的主要解决途径 | 第17-18页 |
| 1.4 新兴的污染物-抗性细菌及抗性基因 | 第18-21页 |
| 1.4.1 抗性细菌及抗性基因的起源及危害 | 第18-19页 |
| 1.4.2 抗性基因的传播 | 第19-21页 |
| 1.4.3 抗性基因的去除及面临的主要问题 | 第21页 |
| 1.5 研究的目的、意义和内容 | 第21-23页 |
| 1.5.1 本研究的目的和意义 | 第21-22页 |
| 1.5.2 研究主要内容 | 第22-23页 |
| 第2章 光能自清洁膜系统的构建 | 第23-37页 |
| 2.1 概述 | 第23-24页 |
| 2.2 材料与方法 | 第24-28页 |
| 2.2.1 主要实验材料、化学试剂与仪器 | 第24-25页 |
| 2.2.2 AgNPs及TiO_2共修饰抗污染膜制备 | 第25-26页 |
| 2.2.3 AgNPs及TiO_2修饰PES膜表征 | 第26-27页 |
| 2.2.4 AgNPs及TiO_2修饰PES膜性能测定 | 第27-28页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第28-35页 |
| 2.3.1 膜表面形貌及化学结构分析 | 第28-33页 |
| 2.3.2 膜粘附性及抑菌性分析 | 第33-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-37页 |
| 第3章 光催化膜过滤系统对抗性细菌与抗性基因去除 | 第37-54页 |
| 3.1 概述 | 第37-38页 |
| 3.2 材料与方法 | 第38-45页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第38-39页 |
| 3.2.2 光催化反应性膜制备 | 第39-40页 |
| 3.2.3 TiO_2修饰PVDF膜表征 | 第40页 |
| 3.2.4 膜过滤及光降解实验 | 第40-41页 |
| 3.2.5 膜抗污染性能测定 | 第41页 |
| 3.2.6 膜表面细菌活死情况测定 | 第41页 |
| 3.2.7 细菌质粒及基因组提取 | 第41-42页 |
| 3.2.8 定量PCR测定 | 第42-45页 |
| 3.3 结果与结论 | 第45-53页 |
| 3.3.1 膜表面形貌及粗糙度测定 | 第45-46页 |
| 3.3.2 二沉池二级出水中总细菌及抗性细菌的去除 | 第46-49页 |
| 3.3.3 抗性细菌及整合子过滤及光催化去除 | 第49-52页 |
| 3.3.4 修饰后膜的抗污染性能 | 第52-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 结论与建议 | 第54-56页 |
| 4.1 结论 | 第54页 |
| 4.2 展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文成果 | 第68-69页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第69页 |
