TiAlN硬质薄膜抗氧化性能研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-9页
1 绪论	第9-29页
·课题背景	第9-11页
·表面工程技术	第11-13页
·薄膜技术概述	第13-15页
·气相沉积技术	第15-23页
·气相沉积技术的概念和特点	第15-16页
·气相沉积技术相关基物理础	第16-23页
·物理气相沉积技术	第23-26页
·物理气相沉积技术的简单描述	第23-25页
·物理气相沉积技术的特点	第25-26页
·磁控溅射镀	第26-27页
·二极溅射	第26页
·三极溅射	第26页
·四极溅射	第26-27页
·射频溅射	第27页
·磁控溅射	第27页
·氮铝钛薄膜的研究现状	第27-28页
·本论文研究的内容、技术路线及意义	第28-29页
·研究内容	第28页
·研究的技术路线	第28-29页
·研究意义	第29页
2 实验设备及方法	第29-35页
·磁控溅射设备	第29-30页
·实验材料及基体试样预处理	第30-31页
·实验材料	第30-31页
·实验前基体试样的预处理	第31页
·TIALN 硬质薄膜的制备	第31-32页
·实验流程	第31页
·实验工艺	第31-32页
·TIALN 硬质薄膜氧化实验	第32页
·硬质薄膜氧化增重测量	第32页
·抗氧化性能的测定	第32-35页
·结合力的测定	第32-34页
·维氏显微硬度的测定	第34-35页
3 TIALN 薄膜物相、成分及化合价态分析	第35-55页
·TIALN 薄膜氧化增重结果及分析	第35-37页
·TIALN 薄膜物相分析	第37-42页
·TIALN 薄膜XPS 分析	第42-51页
·TIALN 薄膜断口照片分析	第51-55页
4 薄膜抗氧化性能及其结果分析	第55-61页
·氧化温度对TIALN 薄膜硬度影响分析	第55-56页
·氧化温度对TIALN 薄膜结合力影响分析	第56-61页
结论	第61-62页
参考文献	第62-65页
攻读硕士学位期间学术论文及科研情况	第65-66页
致谢	第66-67页