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基于GEANT4的航天器介质抗内带电数值模拟

摘要第8-9页
ABSTRACT第9-10页
第一章 绪论第11-18页
    1.1 航天器深层充电效应研究背景第11-15页
        1.1.1 空间辐射环境第11-12页
        1.1.2 空间辐射效应及危害第12-15页
    1.2 深层充电效应研究现状第15-17页
        1.2.1 国外研究现状第15页
        1.2.2 国内研究现状第15-17页
    1.3 本文主要工作第17-18页
第二章 航天器介质深层充电计算方法第18-30页
    2.1 电子在介质中的输运第18-20页
        2.1.1 经验公式法第18-19页
        2.1.2 蒙特卡罗方法第19-20页
        2.1.3 计算方法的比较第20页
    2.2 介质电导率第20-23页
        2.2.1 辐射诱导电导率第20-22页
        2.2.2 非线性电导率第22-23页
    2.3 电场计算模型第23-26页
        2.3.1 等效电路模型第24页
        2.3.2 微分方程模型第24页
        2.3.3 RIC模型第24-25页
        2.3.4 GR模型第25-26页
        2.3.5 电场模型的比较第26页
    2.4 介质深层充电数值模拟常用软件第26-29页
        2.4.1 ESADDC第26-27页
        2.4.2 DICTACT第27-28页
        2.4.3 NUMIT第28页
        2.4.4 常用软件比较第28-29页
    2.5 本章小结第29-30页
第三章 基于GEANT4的电子在介质材料中的输运模拟第30-43页
    3.1 GEANT4工具包简介第30-37页
        3.1.1 入射电子源的实现第32-33页
        3.1.2 电子与物质作用的物理过程第33-35页
        3.1.3 探测器的构造第35-36页
        3.1.4 计算结果的输出第36-37页
    3.2 电子输运过程的GEANT4模拟第37-40页
    3.3 算例验证第40-42页
    3.4 本章小结第42-43页
第四章 介质深层充电仿真计算及抗内带电分析第43-58页
    4.1 介质深层带电机理与抗内带电方法第43-44页
    4.2 航天介质深层充电计算过程第44-51页
        4.2.1 深层充电计算过程第44-46页
        4.2.2 介质非线性电导率的拟合第46-48页
        4.2.3 初始-边值条件及求解方法第48-49页
        4.2.4 算例验证第49-51页
    4.3 非线性电导对深层充电的改善第51-56页
        4.3.1 SiC掺量对介质深层充电的影响第52-54页
        4.3.2 SiC粒径对介质深层充电的影响第54-55页
        4.3.3 SiC成分对介质深层充电的影响第55-56页
        4.3.4 SiC晶型对介质深层充电的影响第56页
    4.4 本章小结第56-58页
第五章 结论第58-60页
    5.1 总结第58-59页
    5.2 展望第59-60页
参考文献第60-64页
致谢第64-65页
在学期间发表的学术论文和参加科研情况第65-66页
学位论文评阅及答辩情况表第66页

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