摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
主要符号表 | 第6-10页 |
1 绪论 | 第10-22页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 弛豫铁电晶体概述 | 第11-16页 |
1.2.1 弛豫铁电晶体的弛豫特性 | 第11页 |
1.2.2 弛豫铁电晶体基本结构 | 第11-12页 |
1.2.3 弛豫铁电晶体的电畴 | 第12-14页 |
1.2.4 介电性能 | 第14页 |
1.2.5 压电性能 | 第14页 |
1.2.6 铁电性能 | 第14-16页 |
1.3 准同型相界的确定 | 第16-17页 |
1.3.1 二元、三元体系准同型相界的确定 | 第16-17页 |
1.3.2 四元体系准同型相界的确定 | 第17页 |
1.4 铁电晶体的生长方法 | 第17-18页 |
1.5 弛豫铁电晶体存在的主要问题 | 第18-19页 |
1.5.1 晶体生长缺陷 | 第18-19页 |
1.5.2 晶体生长中高温坩埚腐蚀 | 第19页 |
1.5.3 晶体成分均匀性 | 第19页 |
1.6 国内研究进展 | 第19-20页 |
1.7 论文研究的主要内容 | 第20-21页 |
1.8 论文研究的目的和意义 | 第21-22页 |
2 实验方法与研究过程 | 第22-30页 |
2.1 实验原材料与设备 | 第22-23页 |
2.2 研究过程 | 第23-24页 |
2.2.1 研究方案 | 第23页 |
2.2.2 技术路线 | 第23-24页 |
2.3 组分配比 | 第24-25页 |
2.4 晶体制备过程 | 第25-26页 |
2.4.1 合成原料 | 第25页 |
2.4.2 生长晶体 | 第25页 |
2.4.3 提取晶体 | 第25-26页 |
2.5 陶瓷的制备过程 | 第26-27页 |
2.5.1 混合球磨 | 第26页 |
2.5.2 烘干 | 第26页 |
2.5.3 预烧结 | 第26-27页 |
2.5.4 二次球磨和成型 | 第27页 |
2.5.5 等静压和排胶 | 第27页 |
2.5.6 烧结 | 第27页 |
2.5.7 陶瓷制样 | 第27页 |
2.6 晶体和陶瓷的形貌和相结构 | 第27-28页 |
2.6.1 宏观与微观形貌 | 第27页 |
2.6.2 相结构 | 第27-28页 |
2.7 晶体的电畴组态 | 第28页 |
2.8 镀银、渗银 | 第28页 |
2.9 晶体和陶瓷的介电性能 | 第28-29页 |
2.10 晶体和陶瓷的压电性能 | 第29-30页 |
3 高温溶液法生长PSN-PMN-PT-PZ晶体的结构与性能 | 第30-50页 |
3.1 晶体形貌 | 第30-39页 |
3.1.1 凝固试样外形 | 第30-31页 |
3.1.2 晶体宏观形貌 | 第31-32页 |
3.1.3 晶体微观形貌 | 第32-39页 |
3.2 晶体相结构 | 第39-40页 |
3.3 晶体电畴变化 | 第40-44页 |
3.4 晶体电学性能 | 第44-48页 |
3.4.1 介电性能 | 第44-48页 |
3.4.2 压电性能 | 第48页 |
3.4.3 铁电性能 | 第48页 |
3.5 本章小结 | 第48-50页 |
4 PSN-PMN-PT-PZ四元陶瓷的结构与性能 | 第50-61页 |
4.1 PSN-PMN-PT-PZ陶瓷的相结构 | 第50页 |
4.2 PSN-PMN-PT-PZ陶瓷的微观形貌 | 第50-55页 |
4.2.1 宏观形貌 | 第50-51页 |
4.2.2 微观形貌 | 第51-53页 |
4.2.3 元素分布 | 第53-55页 |
4.3 PSN-PMN-PT-PZ陶瓷的性能表征 | 第55-59页 |
4.3.1 介电性能 | 第55-58页 |
a) 介电频谱 | 第56-57页 |
b) 介电温谱 | 第57-58页 |
4.3.2 压电性能 | 第58页 |
4.3.3 铁电性能 | 第58-59页 |
4.3.4 机电耦合系数 | 第59页 |
4.4 本章总结 | 第59-61页 |
5 结论 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-67页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第67-68页 |
致谢 | 第68-70页 |