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石墨烯的功能化及电化学性能分析与应用研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 引言第10-19页
    1.1 选题依据和研究意义第10-17页
        1.1.1 GR概述第10-14页
        1.1.2 CC概述第14-15页
        1.1.3 化学修饰电极第15-17页
    1.2 国内外的研究进展第17-18页
    1.3 研究内容及创新点第18-19页
        1.3.1 研究内容第18页
        1.3.2 研究创新点第18-19页
第2章 GR的制备及其功能化第19-32页
    2.1 试剂与仪器第19-20页
        2.1.1 实验试剂第19页
        2.1.2 实验仪器第19-20页
    2.2 实验部分第20-23页
        2.2.1 GO的制备第20-21页
        2.2.2 GO的表征第21页
        2.2.3 GR的制备第21页
        2.2.4 GR的功能化第21-23页
    2.3 结果与讨论第23-30页
        2.3.1 GO表征第23-24页
        2.3.2 GR的制备第24-25页
        2.3.3 CdTe QDs功能化GR第25-27页
        2.3.4 表面活性剂功能化GR第27-30页
    小结第30-32页
第3章 功能化GR修饰电极的制备及对CC的电催化性能研究第32-39页
    3.1 实验部分第33-34页
        3.1.1 实验试剂第33页
        3.1.2 实验仪器第33-34页
    3.2 实验方法第34-35页
        3.2.1 CdTe QDs功能化GR修饰电极的制备第34页
        3.2.2 CTMAB功能化GR修饰电极的制备第34页
        3.2.3 不同电极的交流阻抗分析第34页
        3.2.4 CC在修饰玻碳电极上的电化学特性第34-35页
    3.3 结果与讨论第35-38页
        3.3.1 CdTe QDs功能化GR修饰玻碳电极的电化学性能研究第35-37页
        3.3.2 CTMAB功能化GR修饰玻碳电极的电化学性能研究第37-38页
    小结第38-39页
第4章 CdTe QDs/GR修饰电极对CC的响应研究第39-51页
    4.1 实验试剂与仪器第39-40页
        4.1.1 实验试剂第39-40页
        4.1.2 实验仪器第40页
    4.2 实验方法第40页
    4.3 支持电解质pH的选择第40-43页
    4.4 仪器条件的优化第43-46页
        4.4.1 扫描速率的影响第43-44页
        4.4.2 富集电位的影响第44-45页
        4.4.3 富集时间的影响第45-46页
    4.5 工作曲线第46-47页
    4.6 检出限的确定第47-48页
    4.7 CdTe QDs/GR修饰电极的重现性、稳定性实验第48-49页
    4.8 干扰实验第49页
    4.9 样品分析第49-50页
    小结第50-51页
第5章 CTMAB功能化GR修饰电极对CC的响应研究第51-61页
    5.1 实验试剂与仪器第51-52页
        5.1.1 实验试剂第51页
        5.1.2 实验仪器第51-52页
    5.2 实验方法第52页
        5.2.1 GCE的预处理第52页
        5.2.2 功能化GR修饰电极的制备第52页
        5.2.3 实验方法第52页
    5.3 支持电解质pH的选择第52-54页
    5.4 扫速对峰电流和峰电压的影响第54-57页
    5.5 工作曲线第57页
    5.6 检出限的确定第57-58页
    5.7 干扰实验第58页
    5.8 CTMAB功能化GR修饰电极的重现性、稳定性实验第58-59页
    5.9 样品分析第59-60页
    小结第60-61页
结论第61-63页
致谢第63-64页
参考文献第64-68页
攻读学位期间取得学术成果第68页

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