| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 文献综述 | 第12-40页 |
| 1.1 前言 | 第12-14页 |
| 1.2 研究背景 | 第14-16页 |
| 1.3 光学传感器基本原理 | 第16-21页 |
| 1.3.1 发光过程动力学 | 第16-19页 |
| 1.3.2 荧光猝灭原理 | 第19-21页 |
| 1.4 光学温度和压力敏感涂料及其应用 | 第21-38页 |
| 1.4.1 光学温度敏感涂料 | 第21-33页 |
| 1.4.1.1 温度敏感涂料的发光探针 | 第21-30页 |
| 1.4.1.2 温度敏感涂料的高分子基质 | 第30-31页 |
| 1.4.1.3 光学温度敏感涂料的发展和应用 | 第31-33页 |
| 1.4.2 光学压力敏感涂料 | 第33-38页 |
| 1.4.2.1 压力敏感涂料的发光探针 | 第33-35页 |
| 1.4.2.2 压力敏感涂料的高分子基质 | 第35-37页 |
| 1.4.2.3 光学压力敏感涂料的发展和应用 | 第37-38页 |
| 1.5 研究目的和方法 | 第38-40页 |
| 第2章 温度敏感涂料的光物理性质研究 | 第40-52页 |
| 2.1 引言 | 第40-41页 |
| 2.2 实验部分 | 第41-43页 |
| 2.2.1 试剂 | 第41-42页 |
| 2.2.2 实验设备和仪器 | 第42页 |
| 2.2.3 样片制备 | 第42页 |
| 2.2.4 荧光光谱测定 | 第42-43页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第43-50页 |
| 2.3.1 高分子基质对TSP薄膜的温度灵敏度影响 | 第43-48页 |
| 2.3.2 高分子基质对发光强度的影响 | 第48-49页 |
| 2.3.3 探针浓度对发光强度的影响 | 第49-50页 |
| 2.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 第3章 压力敏感涂料的光物理性质研究 | 第52-64页 |
| 3.1 引言 | 第52-53页 |
| 3.2 实验部分 | 第53-55页 |
| 3.2.1 试剂 | 第53-54页 |
| 3.2.2 实验设备和仪器 | 第54页 |
| 3.2.3 光学压力敏感涂料的制备 | 第54页 |
| 3.2.4 荧光光谱测定 | 第54页 |
| 3.2.5 响应速度实验 | 第54-55页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第55-62页 |
| 3.3.1 高分子结构与扩散控制氧猝灭 | 第55-58页 |
| 3.3.2 高分子与探针分子相互作用对氧猝灭的影响 | 第58-61页 |
| 3.3.3 高分子结构与氧猝灭时间响应 | 第61-62页 |
| 3.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第4章 光学温度和光学压力敏感涂料在风洞测试中应用 | 第64-84页 |
| 4.1 引言 | 第64页 |
| 4.2 光学测量系统 | 第64-66页 |
| 4.3 PSP技术验证 | 第66-75页 |
| 4.3.1 样片校准及响应时间 | 第66-70页 |
| 4.3.1.1 样片校准 | 第66-68页 |
| 4.3.1.2 压力响应时间 | 第68-70页 |
| 4.3.2 风洞实验条件 | 第70-71页 |
| 4.3.3 图像采集与数据处理 | 第71-72页 |
| 4.3.4 试验结果与讨论 | 第72-75页 |
| 4.4 TSP技术验证 | 第75-82页 |
| 4.4.1 样片校准及响应时间 | 第75-79页 |
| 4.4.1.1 样片校准 | 第75-77页 |
| 4.4.1.2 温度响应时间 | 第77-79页 |
| 4.4.2 风洞试验条件 | 第79-80页 |
| 4.4.3 图像采集与数据处理 | 第80-81页 |
| 4.4.4 试验结果与讨论 | 第81-82页 |
| 4.5 本章小结 | 第82-84页 |
| 第5章 全文总结 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-102页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第102-104页 |
| 附图 | 第104-108页 |
| 致谢 | 第108页 |
