摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-21页 |
1.1 等离子体技术 | 第11-15页 |
1.1.1 等离子体简介 | 第11-13页 |
1.1.2 射频(RF)辉光放电等离子体 | 第13-14页 |
1.1.3 等离子体的发展概况 | 第14-15页 |
1.2 氧析出反应(OER) | 第15-19页 |
1.2.1 氧析出反应简介 | 第15-16页 |
1.2.2 氧析出反应机理 | 第16-17页 |
1.2.3 氧析出反应催化剂简介 | 第17-19页 |
1.3 本课题的研究意义与内容 | 第19-21页 |
第2章 具有氧空位和高比表面积的氩气等离子体刻蚀的Co_3O_4纳米片应用于电催化析氧反应 | 第21-34页 |
2.1 引言 | 第21-22页 |
2.2 实验药品与仪器 | 第22-23页 |
2.2.1 实验药品 | 第22页 |
2.2.2 实验仪器 | 第22-23页 |
2.3 实验部分 | 第23-24页 |
2.3.1 四氧化三钴纳米片的制备 | 第23页 |
2.3.2 用氩气等离子体处理四氧化三钴纳米片 | 第23页 |
2.3.3 物理表征 | 第23页 |
2.3.4 电化学测试 | 第23-24页 |
2.4 结果与讨论 | 第24-33页 |
2.4.1 扫描电镜和透射电镜测试结果分析 | 第24-26页 |
2.4.2 X射线衍射光谱测试结果分析 | 第26-27页 |
2.4.3 BET比表面积测试结果分析 | 第27页 |
2.4.4 X射线光电子能谱测试结果分析 | 第27-29页 |
2.4.5 电化学性能表征结果分析 | 第29-33页 |
2.5 本章小结 | 第33-34页 |
第3章 具有氧空位的氮掺杂多孔Co_3O_4纳米片应用于电催化析氧反应 | 第34-47页 |
3.1 引言 | 第34-35页 |
3.2 实验药品与仪器 | 第35页 |
3.2.1 实验药品 | 第35页 |
3.2.2 实验仪器 | 第35页 |
3.3 实验部分 | 第35-36页 |
3.3.1 四氧化三钴纳米片的制备 | 第35页 |
3.3.2 用氮气等离子体处理四氧化三钴纳米片 | 第35-36页 |
3.3.3 物理表征 | 第36页 |
3.3.4 电化学测试 | 第36页 |
3.4 结果与讨论 | 第36-46页 |
3.4.1 扫描电镜和透射电镜测试结果分析 | 第36-40页 |
3.4.2 X射线衍射光谱测试结果分析 | 第40页 |
3.4.3 拉曼光谱测试结果分析 | 第40-41页 |
3.4.4 BET比表面积测试结果分析 | 第41-42页 |
3.4.5 X射线光电子能谱测试结果分析 | 第42-43页 |
3.4.6 电化学性能表征结果分析 | 第43-46页 |
3.5 本章小结 | 第46-47页 |
第4章 将Co_3O_4纳米片转化为具有氧空位和氮掺杂的多孔的CoO纳米片应用于电催化析氧反应 | 第47-58页 |
4.1 引言 | 第47-48页 |
4.2 实验药品与仪器 | 第48页 |
4.2.1 实验药品 | 第48页 |
4.2.2 实验仪器 | 第48页 |
4.3 实验部分 | 第48-49页 |
4.3.1 四氧化三钴纳米片的制备 | 第48页 |
4.3.2 用氨气等离子体处理四氧化三钴纳米片 | 第48-49页 |
4.3.3 物理表征 | 第49页 |
4.3.4 电化学测试 | 第49页 |
4.4 结果与讨论 | 第49-57页 |
4.4.1 X射线衍射光谱测试结果分析 | 第49-50页 |
4.4.2 比表面积测试结果分析 | 第50页 |
4.4.3 扫描电镜和透射电镜测试结果分析 | 第50-53页 |
4.4.4 X射线光电子能谱测试结果分析 | 第53-54页 |
4.4.5 电化学性能表征结果分析 | 第54-57页 |
4.5 本章小结 | 第57-58页 |
结论 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-71页 |
附录A 攻读硕士学位期间所发表的学术论文目录 | 第71-72页 |
致谢 | 第72页 |