| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-34页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 QLED发光器件基础知识 | 第10-17页 |
| 1.2.1 QLED发展历程 | 第11-12页 |
| 1.2.2 QLED性能参数 | 第12-14页 |
| 1.2.3 QLED出光增强 | 第14-17页 |
| 1.3 微纳结构制造 | 第17-21页 |
| 1.3.1 光刻技术 | 第17-18页 |
| 1.3.2 直写技术 | 第18-19页 |
| 1.3.3 纳米压印 | 第19-21页 |
| 1.4 PEDOT:PSS薄膜 | 第21-26页 |
| 1.4.1 PEDOT:PSS基础知识 | 第21-22页 |
| 1.4.2 PEDOT:PSS薄膜改性 | 第22-23页 |
| 1.4.3 PEDOT:PSS图案化制备 | 第23-26页 |
| 1.5 目前存在的问题及主要研究内容 | 第26-28页 |
| 1.5.1 目前存在的主要问题 | 第26-27页 |
| 1.5.2 主要思路和主要研究内容 | 第27-28页 |
| 参考文献 | 第28-34页 |
| 第二章 利用纳米压印构筑多结构微纳图案 | 第34-46页 |
| 2.1 引言 | 第34-35页 |
| 2.2 实验部分 | 第35-37页 |
| 2.2.1 试剂和仪器 | 第35页 |
| 2.2.2 实验过程 | 第35-37页 |
| 2.3 结果和讨论 | 第37-43页 |
| 2.3.1 DVD模板及一次压印结果表征 | 第38页 |
| 2.3.2 温度对二次模板压印的影响 | 第38-40页 |
| 2.3.3 压力对二次模板压印的影响 | 第40-41页 |
| 2.3.4 二次平板压印 | 第41-43页 |
| 2.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 第三章 利用纳米压印结合反应离子束刻蚀制备PEDOT:PSS微纳结构及其QLED应用 | 第46-60页 |
| 3.1 引言 | 第46-47页 |
| 3.2 实验部分 | 第47-50页 |
| 3.2.1 试剂和仪器 | 第47页 |
| 3.2.2 实验过程 | 第47-50页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第50-56页 |
| 3.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 第四章 PEDOT:PSS/丙三醇的图案化构筑及其QLED应用 | 第60-73页 |
| 4.1 引言 | 第60-61页 |
| 4.2 实验部分 | 第61-63页 |
| 4.2.1 试剂和仪器 | 第61页 |
| 4.2.2 实验过程 | 第61-63页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第63-70页 |
| 4.3.1 丙三醇含量的影响 | 第63-64页 |
| 4.3.2 压力对压印质量的影响 | 第64-66页 |
| 4.3.3 退火对G-PEDOT:PSS形貌的影响 | 第66-68页 |
| 4.3.4 图案化G-PEDOT:PSS对QLED器件性能的影响 | 第68-70页 |
| 4.4 本章小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-73页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
