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在石英和多孔α-Al2O3基体上制备碳纳米管膜

中文摘要第3-4页
ABSTRACT第4-5页
第一章 绪论第9-27页
    1.1 碳纳米管简介第9-10页
    1.2 碳纳米管的制备方法第10-11页
        1.2.1 电弧法第10页
        1.2.2 激光蒸发法第10-11页
        1.2.3 模板法第11页
        1.2.4 化学气相沉积法第11页
    1.3 CVD法制备碳纳米管的生长机理第11-13页
        1.3.1 顶部生长机理第11-12页
        1.3.2 底部生长机理第12页
        1.3.3 碳帽生长机理第12页
        1.3.4 气相-液相-固相机理第12-13页
    1.4 取向碳纳米管的生长机理第13-14页
    1.5 定向碳纳米管的制备第14-19页
        1.5.1 物理方法第14-15页
        1.5.2 化学气相沉积法第15-18页
        1.5.3 CVD工艺参数对取向碳纳米管的影响第18-19页
    1.6 碳纳米管阵列的研究现状第19-21页
        1.6.1 采用后处理方法获得阵列碳纳米管第20页
        1.6.2 直接在基底上得到碳纳米管的有序宏观体第20页
        1.6.3 碳纳米管阵列的大规模生长第20-21页
    1.7 一致取向碳纳米管阵列应用展望第21-23页
        1.7.1 碳纳米管膜的应用第21页
        1.7.2 太阳能吸收第21页
        1.7.3 场发射管第21-22页
        1.7.4 表面改性第22-23页
        1.7.5 传感器第23页
        1.7.6 电极材料第23页
    1.8 碳纳米管的应用第23-25页
        1.8.1 高强度的纤维材料第24页
        1.8.2 微型化电子开关第24页
        1.8.3 优良的场发射材料第24页
        1.8.4 单向导热/隔热材料第24-25页
        1.8.5 超导材料第25页
        1.8.6 质子交换膜(PEM)燃料电池第25页
    1.9 本文的工作内容第25-27页
第二章 实验装置及实验方法第27-31页
    2.1 实验试剂和仪器第27-29页
    2.2 实验设备第29页
    2.3 表征方法第29-31页
        2.3.1 透射电子显微镜第29-30页
        2.3.2 场发射透射电子显微镜第30页
        2.3.3 扫描电子显微镜第30页
        2.3.4 X射线衍射第30-31页
第三章 在多孔陶瓷基体上制备碳纳米管膜第31-47页
    3.1 前言第31页
    3.2 多孔陶瓷基体第31-33页
        3.2.1 多孔α-A12 O 3 基体的制备第31-32页
        3.2.2 多孔α-A12 O 3 基体的XRD表征第32-33页
        3.2.3 多孔基体制备总结第33页
    3.3 碳纳米管的制备第33-35页
    3.4 结果表征与分析第35-46页
        3.4.1 催化剂用量的影响第35-40页
        3.4.2 反应温度的影响第40-42页
        3.4.3 XRD表征第42-43页
        3.4.4 生成的碳纳米管的元素分析第43-45页
        3.4.5 浮动催化法制备定向碳纳米管生长机理的探讨第45-46页
    3.5 本章小结第46-47页
第四章 在石英基体上制备碳纳米管膜第47-58页
    4.1 前言第47-48页
    4.2 实验方法第48-49页
    4.3 结果与分析第49-57页
        4.3.1 催化剂颗粒第49-52页
        4.3.2 碳纳米管的表征第52-57页
    4.4 本章小结第57-58页
第五章 结论与展望第58-60页
    5.1 结论第58-59页
    5.2 展望第59-60页
参考文献第60-67页
致谢第67页

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