| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 CIS 的研究背景和意义 | 第10-12页 |
| 1.2 CIS 的发展历程 | 第12-15页 |
| 1.2.1 无源像素图像传感器 | 第12-13页 |
| 1.2.2 有源像素图像传感器 | 第13-14页 |
| 1.2.3 数字像素图像传感器 | 第14-15页 |
| 1.3 CIS 的技术优势 | 第15-18页 |
| 1.4 CIS 的研究与发展趋势 | 第18-20页 |
| 1.5 本论文的主要工作及章节安排 | 第20-21页 |
| 2 CIS 系统结构及工作原理 | 第21-28页 |
| 2.1 CMOS 图像传感器的系统结构 | 第21-23页 |
| 2.2 CMOS 图像传感器的芯片结构 | 第23-24页 |
| 2.3 CMOS 图像传感器像元结构 | 第24-27页 |
| 2.4 本章小结 | 第27-28页 |
| 3 CMOS 图像传感器的灵敏度分析 | 第28-41页 |
| 3.1 半导体的光电效应 | 第28-31页 |
| 3.1.1 半导体的折射率和光吸收系数 | 第29页 |
| 3.1.2 半导体的光吸收效应 | 第29-31页 |
| 3.2 CMOS 图像传感器灵敏度影响因素 | 第31-36页 |
| 3.2.1 量子效率 | 第32-35页 |
| 3.2.2 光学效率 | 第35-36页 |
| 3.3 光学模拟软件分析 | 第36-40页 |
| 3.3.1 光学模拟软件的准确性验证 | 第37页 |
| 3.3.2 光学模拟软件的分析方法和标准 | 第37-39页 |
| 3.3.3 介质层厚度对光学透射率影响的模拟分析 | 第39-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 CMOS 图像传感器灵敏度工艺优化方法 | 第41-56页 |
| 4.1 概要的工艺流程 | 第41-42页 |
| 4.2 灵敏度工艺优化方法 | 第42-44页 |
| 4.2.1 灵敏度工艺优化方法 | 第42-43页 |
| 4.2.2 工艺流程优化设计 | 第43-44页 |
| 4.2.3 版图优化设计 | 第44页 |
| 4.3 灵敏度优化工艺流程开发 | 第44-52页 |
| 4.3.1 CMOS 工艺流程开发 | 第44-46页 |
| 4.3.2 彩色滤波片(Color Filter)和微透镜(Micro Lens)工艺流程开发 | 第46-52页 |
| 4.4 实验结果 | 第52-55页 |
| 4.4.1 产品流片 | 第52页 |
| 4.4.2 X-SEM 检查结果 | 第52-53页 |
| 4.4.3 良率测试结果 | 第53页 |
| 4.4.4 客户端测试结果 | 第53-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 5 总结与展望 | 第56-58页 |
| 5.1 全文总结 | 第56-57页 |
| 5.2 工作展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第61页 |