| 中文摘要 | 第3-4页 |
| 英文摘要 | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| 1．1 引言 | 第8-11页 |
| 1．1．1 DKDP晶体的重要应用 | 第8页 |
| 1．1．2 DKDP与KDP晶体主要性能参数的对比 | 第8-9页 |
| 1．1．3 DKDP晶体生长方法的研究进展 | 第9-11页 |
| 1．2 研究问题的提出 | 第11-16页 |
| 1．2．1 单斜相的干扰 | 第11-13页 |
| 1．2．2 氘含量大小与与晶体性能的的关系 | 第13页 |
| 1．2．3 溶液的稳定性 | 第13-14页 |
| 1．2．4 液相包裹体危害及其形成原因 | 第14-15页 |
| 1．2．5 DKDP晶体激光损伤阈值的研究 | 第15-16页 |
| 1．3 研究思路 | 第16-17页 |
| 1．3．1 研究目的 | 第16页 |
| 1．3．2 研究内容与方法 | 第16-17页 |
| 第二章 原料合成与溶液配制 | 第17-22页 |
| 2．1 合成原理 | 第17页 |
| 2．2 理论计算 | 第17页 |
| 2．3 合成步骤 | 第17-19页 |
| 2．4 溶液pD值 | 第19-20页 |
| 2．5 杂质金属离子含量的检测 | 第20页 |
| 2．6 杂质金属离子与临界过饱和度的关系 | 第20-21页 |
| 2．7 结果与讨论 | 第21-22页 |
| 第三章 溶液稳定性的研究 | 第22-30页 |
| 3．1 溶液稳定性研究的重要性 | 第22-23页 |
| 3．2 过热对溶液稳定性的影响 | 第23-25页 |
| 3．2．1 过热时间对溶液稳定性的影响 | 第24-25页 |
| 3．2．2 过热温度对溶液稳定性的影响 | 第25页 |
| 3．3 结果与讨论 | 第25-29页 |
| 3．3．1 临界过饱和度 | 第25-26页 |
| 3．3．2 过热影响相对过饱和度理论探讨 | 第26-28页 |
| 3．3．3 影响溶液稳定性的因素 | 第28-29页 |
| 3．4 结论 | 第29-30页 |
| 第四章 点状籽晶生长DKDP晶体的研究 | 第30-42页 |
| 4．1 晶体生长设备 | 第30-31页 |
| 4．2 晶体生长实验 | 第31-35页 |
| 4．2．1 籽晶类型—点状籽晶 | 第31-32页 |
| 4．2．2 饱和点的测定 | 第32页 |
| 4．2．3 溶液温度速率曲线的拟合 | 第32-33页 |
| 4．2．4 晶体生长 | 第33-35页 |
| 4．3 生长中存在问题的探讨 | 第35-40页 |
| 4．3．1 生长速度问题 | 第35-38页 |
| 4．3．2 单斜相杂晶的干扰 | 第38-39页 |
| 4．3．3 液相包裹体的形成 | 第39-40页 |
| 4．4 结论 | 第40-42页 |
| 第五章 晶体性能的表征 | 第42-49页 |
| 5．1 晶体性能表征方法与结果 | 第42-46页 |
| 5．1．1 杂质金属离子含量的分析 | 第42-43页 |
| 5．1．2 晶体UV—VIS透过光谱的测定 | 第43-44页 |
| 5．1．3 晶体激光损伤阈值的测定 | 第44-45页 |
| 5．1．4 DKDP晶体的电光性质 | 第45-46页 |
| 5．2 讨论 | 第46-48页 |
| 5．3 结论 | 第48-49页 |
| 第六章 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-58页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |