| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 太阳能光热转换 | 第11-13页 |
| 1.2.1 光的认识过程 | 第11-12页 |
| 1.2.2 光热转换的理论基础 | 第12-13页 |
| 1.3 太阳能选择性吸收涂层 | 第13-17页 |
| 1.3.1 选择性吸收涂层发展简介 | 第13-14页 |
| 1.3.2 选择性吸收涂层光学吸收原理 | 第14-15页 |
| 1.3.3 选择性吸收涂层制备方法 | 第15-17页 |
| 1.4 太阳能的热利用技术 | 第17-18页 |
| 1.4.1 太阳能热利用 | 第17-18页 |
| 1.5 磁控溅射镀膜技术 | 第18-22页 |
| 1.5.1 磁控溅射工作原理 | 第18-19页 |
| 1.5.2 磁控溅射镀膜技术的发展 | 第19-22页 |
| 1.5.3 薄膜的形核生长 | 第22页 |
| 1.6 本文的研究意义及实验内容 | 第22-25页 |
| 1.6.1 研究意义 | 第22-23页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验部分 | 第25-35页 |
| 2.1 实验设备 | 第25页 |
| 2.2 基片的预处理和靶材的预溅射 | 第25-27页 |
| 2.3 膜层的选择与设计 | 第27页 |
| 2.4 薄膜的性能的测试与表征 | 第27-35页 |
| 2.4.1 表面形貌分析SEM | 第27-28页 |
| 2.4.2 电化学性能测试 | 第28-30页 |
| 2.4.3 薄膜的颜色表征 | 第30-31页 |
| 2.4.4 紫外可见分光光度计 | 第31-32页 |
| 2.4.5 XRD物相及成分测试 | 第32页 |
| 2.4.6 中性盐雾实验 | 第32-35页 |
| 第三章 反应气体分压对薄膜的微观结构以及性能影响 | 第35-47页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 TiOxNy/TiN薄膜的制备 | 第35-36页 |
| 3.3 氮气分压对薄膜微观结构、性能的影响 | 第36-40页 |
| 3.3.1 N_2分压的XRD分析 | 第36-37页 |
| 3.3.2 N_2分压对薄膜形貌的影响 | 第37-38页 |
| 3.3.3 N_2分压对耐蚀性的影响 | 第38-40页 |
| 3.4 氧气分压对TiOxNy/TiN薄膜微观结构、性能的影响 | 第40-46页 |
| 3.4.1 O_2分压薄膜形貌分析 | 第40-41页 |
| 3.4.2 O_2分压颜色表征分析 | 第41-43页 |
| 3.4.3 O_2分压对耐蚀性的影响 | 第43-44页 |
| 3.4.4 O_2分压对薄膜对薄膜光学性能的分析 | 第44-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 基片初始形貌、过渡层厚度及类别对薄膜性能影响 | 第47-59页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 基片初始形貌对TiOxNy/TiN薄膜性能的影响 | 第47-54页 |
| 4.2.1 深处理的基片与浅处理基片表面形貌比较 | 第47-49页 |
| 4.2.2 浅处理与深处理的基片的耐蚀性的结果比较 | 第49-51页 |
| 4.2.3 浅处理与深处理的基片的中性盐雾试验的结果比较 | 第51-53页 |
| 4.2.4 光滑基体表面与粗糙基体表面吸光度比较 | 第53-54页 |
| 4.3 过渡层对薄膜性能的影响 | 第54-58页 |
| 4.3.1 过渡层厚度对薄膜形貌影响 | 第54-55页 |
| 4.3.2 过渡层膜厚对薄膜耐蚀性的影响 | 第55-57页 |
| 4.3.3 过渡层种类对薄膜耐蚀性能影响 | 第57-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
