单晶硅表面修饰及其纳米力学行为研究
| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 变量注释表 | 第18-19页 |
| 1 绪论 | 第19-33页 |
| 1.1 研究背景 | 第19页 |
| 1.2 DNA分子的改性 | 第19-24页 |
| 1.3 单晶硅的表面修饰方法 | 第24-26页 |
| 1.4 纳米测试技术 | 第26-30页 |
| 1.5 单晶硅力学性能 | 第30-31页 |
| 1.6 研究内容和技术路线 | 第31-33页 |
| 2 碱基修饰及分析方法 | 第33-40页 |
| 2.1 试验材料 | 第33-34页 |
| 2.2 DNA碱基的修饰方法 | 第34-35页 |
| 2.3 基本表征方法 | 第35-40页 |
| 3 碱基表征结果分析 | 第40-49页 |
| 3.1 拉曼光谱分析 | 第40-42页 |
| 3.2 接触角分析 | 第42-43页 |
| 3.3 X射线光电子能谱分析 | 第43-46页 |
| 3.4 原子力显微镜分析 | 第46-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 4 修饰工艺对碱基固定的影响 | 第49-57页 |
| 4.1 荧光背景的影响因素分析 | 第49-52页 |
| 4.2 碱基的固定率 | 第52-56页 |
| 4.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 5 力学性能研究 | 第57-73页 |
| 5.1 单晶硅纳米力学性能 | 第57-61页 |
| 5.2 纳米压痕尺寸效应分析 | 第61-66页 |
| 5.3 碱基修饰表面的力学行为研究 | 第66-69页 |
| 5.4 探针与修饰面的横向作用力的研究 | 第69-72页 |
| 5.5 本章小结 | 第72-73页 |
| 6 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 作者简历 | 第81-83页 |
| 学位论文数据集 | 第83页 |
