| 第一章 绪论 | 第12-49页 |
| 1.1 前言 | 第12-13页 |
| 1.2 纳米复合材料的发展状况概述 | 第13-27页 |
| 1.2.1 纳米材料的结构、特性及表面改性 | 第13页 |
| 1.2.1.1 纳米材料的结构和特性 | 第13页 |
| 1.2.1.2 纳米材料的表面改性 | 第13页 |
| 1.2.2 纳米复合材料的研究现状 | 第13-17页 |
| 1.2.2.1 纳米复合材料的定义 | 第14-15页 |
| 1.2.2.2 纳米复合材料的分类 | 第15页 |
| 1.2.2.3 纳米复合材料的性质 | 第15-16页 |
| 1.2.2.4 纳米复合材料的应用 | 第16-17页 |
| 1.2.3 纳米复合材料的合成方法 | 第17-27页 |
| 1.2.3.1 溶胶-凝胶法(SOL-GEL) | 第17-19页 |
| 1.2.3.2 共混法 | 第19-20页 |
| 1.2.3.3 原位插层法 | 第20-22页 |
| 1.2.3.4 LB 膜技术 | 第22页 |
| 1.2.3.5 原位聚合法 | 第22-27页 |
| 1.3 无机纳米中空材料发展状况概述 | 第27-37页 |
| 1.3.1 无机纳米中空材料的研究现状 | 第27页 |
| 1.3.2 无机纳米中空材料的分类 | 第27页 |
| 1.3.3 无机纳米中空材料的合成方法 | 第27-37页 |
| 1.3.3.1 喷雾干燥技术 | 第28-29页 |
| 1.3.3.2 模板合成法 | 第29-32页 |
| 1.3.3.2.1 表面活性剂模板 | 第30-31页 |
| 1.3.3.2.2 非表面活性剂模板 | 第31-32页 |
| 1.3.3.3 LBL 自组装 | 第32-37页 |
| 1.4 本论文选题研究目的和意义及主要研究成果 | 第37-38页 |
| 1.5 实验仪器 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-49页 |
| 第二章 苯乙烯乳液聚合及其核壳材料的研究 | 第49-74页 |
| 2.1 引言 | 第49-51页 |
| 2.2 实验部分 | 第51-70页 |
| 2.2.1 聚苯乙烯的合成及表征 | 第51-63页 |
| 2.2.1.1 聚苯乙烯微球的合成 | 第51页 |
| 2.2.1.2 聚苯乙烯微球的测试和表征 | 第51-54页 |
| 2.2.1.2.1 透射电子显微镜(TEM) | 第52页 |
| 2.2.1.2.2 粒度及其粒度分布 | 第52-53页 |
| 2.2.1.2.3 差热-热失重(TG-DTA) | 第53-54页 |
| 2.2.1.2.4 红外光谱分析 JIR-5500 (JEOL) | 第54页 |
| 2.2.1.3 乳胶粒形态的形成机理 | 第54-57页 |
| 2.2.1.4 结果与讨论 | 第57-63页 |
| 2.2.1.4.1 反应温度对实验结果的影响 | 第58页 |
| 2.2.1.4.2 引发剂浓度对实验结果的影响 | 第58-59页 |
| 2.2.1.4.3 单体加入方式对实验结果的影响 | 第59-61页 |
| 2.2.1.4.4 反应介质对实验结果的影响 | 第61页 |
| 2.2.1.4.5 乳化剂种类及用量对实验结果的影响 | 第61-63页 |
| 2.2.2 PS/KH570 核壳的合成及表征 | 第63-70页 |
| 2.2.2.1 PS/KH570 核壳聚合物的合成 | 第63页 |
| 2.2.2.2 PS/KH570 核壳聚合物的测试与表征 | 第63-68页 |
| 2.2.2.2.1 透射电子显微镜分析(TEM) | 第63-64页 |
| 2.2.2.2.2 KH570/PS 粒子的粒度及粒度分布 | 第64-65页 |
| 2.2.2.2.3 KH570/PS 聚合物的红外光谱分析 | 第65-66页 |
| 2.2.2.2.4 KH570/PS 聚合物的热失重分析 | 第66-67页 |
| 2.2.2.2.5 动态光散射跟踪乳胶粒子大小 | 第67-68页 |
| 2.2.2.3 PS/KH570 核壳微球的合成原理 | 第68页 |
| 2.2.2.4 结果与讨论 | 第68-70页 |
| 2.2.2.4.1 反应时间对实验结果的影响 | 第68-69页 |
| 2.2.2.4.2 反应介质对KH570/PS 聚合物的影响 | 第69-70页 |
| 2.3 本章小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 第三章 无机纳米粉体的制备及其表面改性研究 | 第74-100页 |
| 3.1 引言 | 第74-76页 |
| 3.2 实验部分 | 第76-97页 |
| 3.2.1 单分散球形二氧化硅粒子的合成及其表面改性 | 第76-92页 |
| 3.2.1.1 单分散球形二氧化硅粒子的合成 | 第76-77页 |
| 3.2.1.2 单分散球形二氧化硅粒子的测试和表征 | 第77-82页 |
| 3.2.1.2.1 透射电子显微镜(TEM) | 第77-78页 |
| 3.2.1.2.2 二氧化硅粒子的粒度及粒度分布 | 第78-79页 |
| 3.2.1.2.3 差热-热失重(TG-DTA) | 第79-80页 |
| 3.2.1.2.4 红外光谱 | 第80-81页 |
| 3.2.1.2.5 二氧化硅粉体的 XRD | 第81-82页 |
| 3.2.1.3 二氧化硅颗粒的形成机理和过程 | 第82页 |
| 3.2.1.4 反应条件对形成二氧化硅颗粒粒径的影响 | 第82-88页 |
| 3.2.1.4.1 反应介质对二氧化硅颗粒粒径的影响 | 第83页 |
| 3.2.1.4.2 水的用量对二氧化硅颗粒粒径的影响 | 第83-84页 |
| 3.2.1.4.3 氨水的用量对二氧化硅颗粒粒径的影响 | 第84-86页 |
| 3.2.1.4.4 反应温度对二氧化硅颗粒粒径的影响 | 第86-87页 |
| 3.2.1.4.5 TEOS 的用量对二氧化硅颗粒粒径的影响 | 第87-88页 |
| 3.2.1.5 表面改性二氧化硅粒子的合成与表征 | 第88-92页 |
| 3.2.1.5.1 表面改性二氧化硅粒子的合成 | 第88页 |
| 3.2.1.5.2 透射电子显微镜(TEM) | 第88-89页 |
| 3.2.1.5.3 红外光谱 | 第89-90页 |
| 3.2.1.5.4 表面能谱分析(XPS) | 第90-91页 |
| 3.2.1.5.5 差热-热失重(TG-DTA) | 第91页 |
| 3.2.1.5.6 接触角检测 | 第91-92页 |
| 3.2.2 表面改性氢氧化镁粒子的合成与表征 | 第92-97页 |
| 3.2.2.1 表面改性氢氧化镁粒子的合成 | 第92页 |
| 3.2.2.2 透射电子显微镜(TEM) | 第92-93页 |
| 3.2.2.3 红外光谱 | 第93-94页 |
| 3.2.2.4 差热-热失重(TG-DTA) | 第94-95页 |
| 3.2.2.5 粒度及粒度分布 | 第95-96页 |
| 3.2.2.6 粉末XRD | 第96-97页 |
| 3.3 本章小结 | 第97-98页 |
| 参考文献 | 第98-100页 |
| 第四章 无机/有机纳米复合材料的制备及表征 | 第100-130页 |
| 4.1 引言 | 第100-101页 |
| 4.2 实验部分 | 第101-127页 |
| 4.2.1 PS/SiO_2复合粒子的合成与表征 | 第101-116页 |
| 4.2.1.1 PS/SiO_2复合粒子的合成 | 第101-102页 |
| 4.2.1.2 透射电子显微镜(TEM) | 第102-104页 |
| 4.2.1.3 粒径及其分布分析 | 第104页 |
| 4.2.1.4 热失重分析 | 第104-105页 |
| 4.2.1.5 表面能谱分析(XPS) | 第105-106页 |
| 4.2.1.6 红外光谱分析JIR-5500 (JEOL) | 第106-107页 |
| 4.2.1.7 扫描电子显微镜(SEM) | 第107-108页 |
| 4.2.1.8 无机粒子在复合粒子中的分散性研究 | 第108-110页 |
| 4.2.1.9 合成PSCP 的影响因素 | 第110-116页 |
| 4.2.2 PMMA/SiO_2复合粒子的合成与表征 | 第116-123页 |
| 4.2.2.1 PMMA/SiO_2复合粒子的合成 | 第116页 |
| 4.2.2.2 透射电子显微镜(TEM) | 第116-118页 |
| 4.2.2.3 粒度及粒度分布 | 第118-119页 |
| 4.2.2.4 热失重分析 | 第119-121页 |
| 4.2.2.5 红外光谱分析 | 第121-123页 |
| 4.2.3 PS/My(OH)_2复合粒子的合成与表征 | 第123-127页 |
| 4.2.3.1 PS/My(OH)_2复合粒子的合成 | 第123页 |
| 4.2.3.2 透射电子显微镜分析(TEM) | 第123-124页 |
| 4.2.3.3 PS/My(OH)_2复合粒子的粒度分布 | 第124-125页 |
| 4.2.3.4 PS/My(OH)_2的热失重分析 | 第125-126页 |
| 4.2.3.5 PS/My(OH)_2红外光谱分析 | 第126-127页 |
| 4.3 本章小结 | 第127-128页 |
| 参考文献 | 第128-130页 |
| 第五章 无机中空材料的合成及表征 | 第130-149页 |
| 5.1 引言 | 第130-131页 |
| 5.2 实验部分 | 第131-133页 |
| 5.2.1 原料 | 第131页 |
| 5.2.2 纳米中空硅球的制备 | 第131-132页 |
| 5.2.3 样品检测 | 第132-133页 |
| 5.3 结果和讨论 | 第133-145页 |
| 5.3.1 透射电子显微镜(TEM) | 第133-135页 |
| 5.3.2 红外光谱分析 | 第135-136页 |
| 5.3.3 热失重分析 | 第136-137页 |
| 5.3.4 比表面积及孔吸附曲线研究 | 第137-138页 |
| 5.3.5 合成二氧化硅中空球的影响因素 | 第138-145页 |
| 5.3.5.1 不同硅原料对形成中空二氧化硅的影响 | 第138-140页 |
| 5.3.5.2 反应温度对形成中空二氧化硅的影响 | 第140-141页 |
| 5.3.5.3 反应时间对形成中空二氧化硅的影响 | 第141页 |
| 5.3.5.4 搅拌速度的形成中空二氧化硅的影响 | 第141-142页 |
| 5.3.5.5 煅烧温度对形成中空二氧化硅的影响 | 第142页 |
| 5.3.5.6 TEOS 的浓度对形成中空二氧化硅的影响 | 第142-143页 |
| 5.3.5.7 升温速率形成中空二氧化硅的影响 | 第143-145页 |
| 5.4 本章小结 | 第145-146页 |
| 参考文献 | 第146-149页 |
| 致谢 | 第149-150页 |
| 附录 | 第150-160页 |
| 1 中英文摘要 | 第150-159页 |
| 2 论文期间发表的文章 | 第159-160页 |
