| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 前言 | 第9页 |
| 1.2 压电材料相关基本理论 | 第9-12页 |
| 1.2.1 压电效应与压电结构 | 第9-11页 |
| 1.2.2 准同型相界 | 第11页 |
| 1.2.3 压电陶瓷的性能参数 | 第11-12页 |
| 1.3 厚膜压电材料概述 | 第12-17页 |
| 1.3.1 厚膜压电材料的成型方法 | 第13-14页 |
| 1.3.2 厚膜压电材料的应用 | 第14-15页 |
| 1.3.3 基板的选择 | 第15-16页 |
| 1.3.4 厚膜压电材料低温烧结的研究 | 第16-17页 |
| 1.4 选题背景及意义 | 第17-19页 |
| 1.4.1 选题背景与研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4.2 实验目的 | 第18-19页 |
| 第二章 实验过程与研究方法 | 第19-27页 |
| 2.1 实验材料和仪器 | 第19-20页 |
| 2.2 厚膜压电材料的制备工艺 | 第20-25页 |
| 2.2.1 压电陶瓷粉体的制备 | 第21页 |
| 2.2.2 压电陶瓷粉体的制备 | 第21-22页 |
| 2.2.3 基板的预处理 | 第22页 |
| 2.2.4 下电极的印刷 | 第22页 |
| 2.2.5 厚膜层的制备 | 第22-24页 |
| 2.2.6 热处理工艺 | 第24页 |
| 2.2.7 极化工艺 | 第24-25页 |
| 2.3 性能测试 | 第25-27页 |
| 2.3.1 XRD分析物相组成 | 第25页 |
| 2.3.2 SEM分析样品的微观形貌 | 第25页 |
| 2.3.3 EDX线扫描分析元素分布 | 第25页 |
| 2.3.4 颗粒尺寸分析 | 第25页 |
| 2.3.5 电学性能测试 | 第25-27页 |
| 第三章 丝网印刷法制备单层及多层并联压电厚膜 | 第27-47页 |
| 3.1 合成温度对单层压电厚膜结构与性能的影响 | 第27-29页 |
| 3.1.1 合成粉体的XRD相结构分析 | 第27-29页 |
| 3.2 烧结助剂的含量对单层压电厚膜的结构和性能的影响 | 第29-33页 |
| 3.2.1 XRD物相结构分析 | 第29-30页 |
| 3.2.2 SEM表面形貌分析 | 第30-31页 |
| 3.2.3 电学性能分析 | 第31-33页 |
| 3.3 烧结温度对单层压电厚膜的结构和性能的影响 | 第33-37页 |
| 3.3.1 物相结构分析 | 第33-34页 |
| 3.3.2 SEM微观结构分析 | 第34-35页 |
| 3.3.3 电学性能分析 | 第35-36页 |
| 3.3.4 电极扩散情况分析 | 第36-37页 |
| 3.4 粉体粒度对单层压电厚膜结构和性能的影响 | 第37页 |
| 3.5 极化工艺对单层压电厚膜性能的影响 | 第37-38页 |
| 3.6 金属基板上PNN-PZN-PZT压电厚膜的研究 | 第38-40页 |
| 3.6.1 不锈钢基板PNN-PZN-PZT压电厚膜 | 第38-39页 |
| 3.6.2 钛基板上PNN-PZN-PZT压电厚膜 | 第39-40页 |
| 3.7 多层并联PNN-PZT-PZT压电厚膜的制备与性能研究 | 第40-45页 |
| 3.7.1 XRD物相结构分析 | 第41-42页 |
| 3.7.2 SEM微观结构分析 | 第42-44页 |
| 3.7.3 多层并联厚膜的电学性能分析 | 第44-45页 |
| 3.8 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 流延法制备PNN-PZN-PZT单层和多层压电厚膜 | 第47-54页 |
| 4.1 流延浆料的配制问题 | 第47-48页 |
| 4.2 烧结制度对流延单层压电厚膜结构与性能的影响 | 第48-52页 |
| 4.2.1 烧结温度对流延单层压电厚膜结构与性能的影响 | 第49-50页 |
| 4.2.2 升温速率对流延单层压电厚膜结构与性能的影响 | 第50-52页 |
| 4.3 流延法制备多层并联PNN-PZN-PZT压电厚膜 | 第52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第五章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 5.1 全文结论 | 第54页 |
| 5.2 今后的工作展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
