| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 类EIT效应的研究与发展 | 第8-11页 |
| 1.3 慢光 | 第11-12页 |
| 1.4 类EIT系统的工艺研究与发展 | 第12-13页 |
| 1.5 主要研究内容 | 第13-14页 |
| 2 二维光子晶体双谐振微腔边耦合波导中类EIT效应 | 第14-24页 |
| 2.1 光子晶体 | 第14-16页 |
| 2.2 双腔耦合波导系统中类EIT效应 | 第16-19页 |
| 2.3 二维平板光子晶体双腔边耦合波导系统 | 第19-23页 |
| 2.4 本章小结 | 第23-24页 |
| 3 金属谐振微腔耦合MIM波导系统中类EIT效应 | 第24-33页 |
| 3.1 表面等离子体激元 | 第24-27页 |
| 3.2 MIM波导中的等离子体诱导透明效应 | 第27-29页 |
| 3.3 双金属谐振微腔与MIM波导耦合系统 | 第29-32页 |
| 3.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 4 平板光子晶体双腔边耦合波导系统的工艺探索 | 第33-53页 |
| 4.1 光刻 | 第34-40页 |
| 4.2 干法刻蚀 | 第40-44页 |
| 4.3 湿法腐蚀 | 第44-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 5 MIM波导与金属耦合微腔系统的工艺探索 | 第53-60页 |
| 5.1 电子束蒸镀 | 第53-54页 |
| 5.2 聚焦离子束刻蚀 | 第54-59页 |
| 5.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 6 全文总结和展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |