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硅纳米孔柱阵列及其氧化亚铜复合纳米体系的可见光催化性能研究

摘要第4-8页
abstract第8-11页
1.引言第15-25页
    1.1 半导体光催化原理及研究现状第17-19页
    1.2 硅纳米结及其性质第19页
    1.3 硅纳米结构的制备方法第19-21页
        1.3.1 多孔硅的制备第19-20页
        1.3.2 硅纳米线的制备第20-21页
    1.4 硅纳米材料在能源和环境领域的应用第21-24页
        1.4.1 新能源方面的应用第21页
        1.4.2 光催化制氢第21-22页
        1.4.3 太阳能电池第22页
        1.4.4 锂电池方面的应用第22-23页
        1.4.5 在环境净化方面的应用第23-24页
    1.5 研究思路及研究内容第24-25页
        1.5.1 研究思路第24页
        1.5.2 研究内容第24-25页
2.实验部分第25-28页
    2.1 Si-NPA及Cu_2O/Si-NPA复合结构的制备第25页
    2.2 物相及微结构表征第25-26页
        2.2.1 X射线衍射分析法(XRD)第25-26页
        2.2.2 场发射扫描电子显微镜(FESEM)第26页
        2.2.3 透射电子显微镜(TEM)第26页
    2.3 光催化性能测试原理第26-28页
        2.3.1 紫外-可见-近红外分光光度法(UV/VIS/NIR)第26页
        2.3.2 朗伯比尔定律第26-28页
3 硅纳米孔柱阵列(Si-NPA)的光催化性能研究第28-43页
    3.1 Si-NPA的制备与光催化实验第28-29页
    3.2 Si-NPA的表征第29-31页
        3.2.1 表面形貌与结构特征第29-30页
        3.2.2 Si-NPA的光学性能第30-31页
    3.3 Si-NPA光催化性能研究第31-41页
        3.3.1 新鲜制备Si-NPA在可见光辐照下对不同浓度甲基橙的降解能力第31-35页
        3.3.2 老化Si-NPA的光催化降解效率第35-36页
        3.3.3 老化Si-NPA的光催化活性的恢复第36-38页
        3.3.4 光源对降解效率的作用第38-39页
        3.3.5 稳定性第39-41页
    3.4 小结第41-43页
4 Cu_2O/Si-NPA复合结构的制备及可见光催化性能研究第43-53页
    4.1 引言第43-44页
    4.2 实验部分第44-45页
        4.2.1 试剂与仪器第44页
        4.2.2 制备方法第44-45页
        4.2.3 测量第45页
    4.3 晶体结构与组分分析第45-47页
    4.4 形貌与微结构分析第47-48页
    4.5 光催化性能第48-51页
    4.6 小结第51-53页
5 结论与展望第53-55页
参考文献第55-62页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第62-63页
致谢第63页

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