| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 CuI的研究现状 | 第12-21页 |
| 1.1.1 CuI的结构性质 | 第12-14页 |
| 1.1.2 CuI的制备 | 第14-19页 |
| 1.1.3 CuI的光电特性 | 第19-21页 |
| 1.2 CuI的应用进展 | 第21页 |
| 1.3 小结 | 第21-23页 |
| 第二章 制备方法和测试方法 | 第23-30页 |
| 2.1 制备方法 | 第23-26页 |
| 2.1.1 电子束蒸发技术 | 第23页 |
| 2.1.2 铜膜碘化法 | 第23-24页 |
| 2.1.3 水热合成法 | 第24-25页 |
| 2.1.4 脉冲激光沉积技术 | 第25-26页 |
| 2.2 测试方法 | 第26-30页 |
| 2.2.1 X-射线衍射技术(XRD) | 第26-27页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第27-28页 |
| 2.2.3 电输运性质测量系统 | 第28页 |
| 2.2.4 紫外可见光光度计 | 第28页 |
| 2.2.5 光致发光(PL) | 第28-30页 |
| 第三章 CuI薄膜的制备及发光特性的研究 | 第30-41页 |
| 3.1 CuI薄膜的制备过程 | 第30-31页 |
| 3.2 结果分析与讨论 | 第31-39页 |
| 3.2.1 CuI的表面形貌和物相分析 | 第31-35页 |
| 3.2.2 CuI薄膜的光学性能研究 | 第35-39页 |
| 3.3 小结 | 第39-41页 |
| 第四章 CuI纳米结构的制备及其发光特性的研究 | 第41-46页 |
| 4.1 CuI纳米材料的制备过程 | 第41-42页 |
| 4.2 结果分析与讨论 | 第42-45页 |
| 4.2.1 CuI纳米材料形貌结构分析 | 第42-44页 |
| 4.2.2 CuI纳米材料的PL特性 | 第44-45页 |
| 4.3 小结 | 第45-46页 |
| 第五章 CuI/ ZnO复合层的制备及其光电性能的研究 | 第46-52页 |
| 5.1 CuI/ZnO复合层的制备 | 第46-47页 |
| 5.2 结果分析与讨论 | 第47-51页 |
| 5.3 小结 | 第51-52页 |
| 第六章 总结与展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 作者简历 | 第59页 |