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离子束辅助沉积制备TiN薄膜工艺及薄膜性能研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第11-23页
    1.1 引言第11-12页
    1.2 TiN的性质及应用第12-14页
        1.2.1 TiN的基本结构及性质第12-13页
        1.2.2 TiN薄膜的应用第13-14页
    1.3 常见的TiN薄膜制备方法第14-17页
        1.3.1 化学气相沉积第14-15页
        1.3.2 阴极电弧离子镀第15-16页
        1.3.3 磁控溅射第16-17页
        1.3.4 离子束辅助沉积第17页
    1.4 工艺条件对制备TiN结构及性能的影响第17-22页
        1.4.1 N_2气体流量对薄膜质量的影响第17-19页
        1.4.2 基体温度对薄膜质量的影响第19-20页
        1.4.3 轰击能量对薄膜质量的影响第20-21页
        1.4.4 制备后的热处理对于薄膜的组织结构及性能的影响第21-22页
    1.5 本课题研究的内容及意义第22-23页
第2章 实验仪器及方法第23-30页
    2.1 实验方案第23页
    2.2 样品制备第23-27页
        2.2.1 镀膜装置第23-25页
        2.2.2 基体材料及清洗工艺参数第25页
        2.2.3 镀膜工艺参数第25-27页
    2.3 退火设备及工艺参数第27-28页
    2.4 薄膜的组成、结构及性能表征第28-30页
        2.4.1 薄膜表面相组成分析第28页
        2.4.2 样品表面化学组成第28-29页
        2.4.3 薄膜表面微观形貌分析第29页
        2.4.4 薄膜的粗糙度及三维形貌第29页
        2.4.5 薄膜电学性能第29-30页
第3章 N_2/(N_2+Ar)流量比对于TiN薄膜组织结构、性能及热稳定性的影响第30-51页
    3.1 N_2/(Ar+N_2)流量比对薄膜组织结构的影响第30-37页
        3.1.1 N_2/(Ar+N_2)流量比对薄膜成分的影响第30-34页
        3.1.2 N_2/(Ar+N_2)流量比对薄膜相组成的影响第34-37页
    3.2 N_2/(Ar+N_2)流量比对薄膜形貌的影响第37-39页
    3.3 N_2/(Ar+N_2)流量比对薄膜电学性能的影响第39-40页
    3.4 N_2/(Ar+N_2)流量比对薄膜热稳定性的影响第40-49页
        3.4.1 退火前及退火后不同时间薄膜组成及结构的变化第40-42页
        3.4.2 退火前及退火后不同时间薄膜形貌的变化第42-48页
        3.4.3 退火前及退火后不同时间薄膜性能的变化第48-49页
    3.5 本章小结第49-51页
第4章 基体温度对于TiN薄膜组织结构、性能及热稳定性的影响第51-61页
    4.1 基体温度对TiN薄膜组织、结构的影响第51-52页
    4.2 基体温度对TiN薄膜形貌的影响第52-53页
    4.3 基体温度对TiN薄膜性能的影响第53-54页
    4.4 基体温度对TiN薄膜热稳定性的影响第54-60页
        4.4.1 退火前及退火后不同时间薄膜组成及结构的变化第54-57页
        4.4.2 退火前及退火后不同时间薄膜形貌的变化第57-59页
        4.4.3 退火前及退火后不同时间薄膜性能的变化第59-60页
    4.5 本章小结第60-61页
第5章 离子轰击能量对于TiN薄膜组织结构、性能及热稳定性的影响第61-71页
    5.1 轰击能量对TiN薄膜组织、结构的影响第61-62页
    5.2 轰击能量对TiN薄膜形貌的影响第62-63页
    5.3 轰击能量对TiN薄膜性能的影响第63-64页
    5.4 基体温度对TiN薄膜热稳定性的影响第64-69页
        5.4.1 退火前及退火后不同时间薄膜组成及结构的变化第64-67页
        5.4.2 退火前及退火后不同时间薄膜形貌的变化第67-69页
        5.4.3 退火前及退火后不同时间薄膜性能的变化第69页
    5.5 本章小结第69-71页
第6章 结论第71-72页
致谢第72-73页
参考文献第73-77页
个人简介第77页

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