摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 TiN的性质及应用 | 第12-14页 |
1.2.1 TiN的基本结构及性质 | 第12-13页 |
1.2.2 TiN薄膜的应用 | 第13-14页 |
1.3 常见的TiN薄膜制备方法 | 第14-17页 |
1.3.1 化学气相沉积 | 第14-15页 |
1.3.2 阴极电弧离子镀 | 第15-16页 |
1.3.3 磁控溅射 | 第16-17页 |
1.3.4 离子束辅助沉积 | 第17页 |
1.4 工艺条件对制备TiN结构及性能的影响 | 第17-22页 |
1.4.1 N_2气体流量对薄膜质量的影响 | 第17-19页 |
1.4.2 基体温度对薄膜质量的影响 | 第19-20页 |
1.4.3 轰击能量对薄膜质量的影响 | 第20-21页 |
1.4.4 制备后的热处理对于薄膜的组织结构及性能的影响 | 第21-22页 |
1.5 本课题研究的内容及意义 | 第22-23页 |
第2章 实验仪器及方法 | 第23-30页 |
2.1 实验方案 | 第23页 |
2.2 样品制备 | 第23-27页 |
2.2.1 镀膜装置 | 第23-25页 |
2.2.2 基体材料及清洗工艺参数 | 第25页 |
2.2.3 镀膜工艺参数 | 第25-27页 |
2.3 退火设备及工艺参数 | 第27-28页 |
2.4 薄膜的组成、结构及性能表征 | 第28-30页 |
2.4.1 薄膜表面相组成分析 | 第28页 |
2.4.2 样品表面化学组成 | 第28-29页 |
2.4.3 薄膜表面微观形貌分析 | 第29页 |
2.4.4 薄膜的粗糙度及三维形貌 | 第29页 |
2.4.5 薄膜电学性能 | 第29-30页 |
第3章 N_2/(N_2+Ar)流量比对于TiN薄膜组织结构、性能及热稳定性的影响 | 第30-51页 |
3.1 N_2/(Ar+N_2)流量比对薄膜组织结构的影响 | 第30-37页 |
3.1.1 N_2/(Ar+N_2)流量比对薄膜成分的影响 | 第30-34页 |
3.1.2 N_2/(Ar+N_2)流量比对薄膜相组成的影响 | 第34-37页 |
3.2 N_2/(Ar+N_2)流量比对薄膜形貌的影响 | 第37-39页 |
3.3 N_2/(Ar+N_2)流量比对薄膜电学性能的影响 | 第39-40页 |
3.4 N_2/(Ar+N_2)流量比对薄膜热稳定性的影响 | 第40-49页 |
3.4.1 退火前及退火后不同时间薄膜组成及结构的变化 | 第40-42页 |
3.4.2 退火前及退火后不同时间薄膜形貌的变化 | 第42-48页 |
3.4.3 退火前及退火后不同时间薄膜性能的变化 | 第48-49页 |
3.5 本章小结 | 第49-51页 |
第4章 基体温度对于TiN薄膜组织结构、性能及热稳定性的影响 | 第51-61页 |
4.1 基体温度对TiN薄膜组织、结构的影响 | 第51-52页 |
4.2 基体温度对TiN薄膜形貌的影响 | 第52-53页 |
4.3 基体温度对TiN薄膜性能的影响 | 第53-54页 |
4.4 基体温度对TiN薄膜热稳定性的影响 | 第54-60页 |
4.4.1 退火前及退火后不同时间薄膜组成及结构的变化 | 第54-57页 |
4.4.2 退火前及退火后不同时间薄膜形貌的变化 | 第57-59页 |
4.4.3 退火前及退火后不同时间薄膜性能的变化 | 第59-60页 |
4.5 本章小结 | 第60-61页 |
第5章 离子轰击能量对于TiN薄膜组织结构、性能及热稳定性的影响 | 第61-71页 |
5.1 轰击能量对TiN薄膜组织、结构的影响 | 第61-62页 |
5.2 轰击能量对TiN薄膜形貌的影响 | 第62-63页 |
5.3 轰击能量对TiN薄膜性能的影响 | 第63-64页 |
5.4 基体温度对TiN薄膜热稳定性的影响 | 第64-69页 |
5.4.1 退火前及退火后不同时间薄膜组成及结构的变化 | 第64-67页 |
5.4.2 退火前及退火后不同时间薄膜形貌的变化 | 第67-69页 |
5.4.3 退火前及退火后不同时间薄膜性能的变化 | 第69页 |
5.5 本章小结 | 第69-71页 |
第6章 结论 | 第71-72页 |
致谢 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-77页 |
个人简介 | 第77页 |